生產(chǎn)廠家:四氟甲烷CF4的合成方法
? ? ? 今天南京中煉能源來(lái)跟大家主要說(shuō)一說(shuō)四氟甲烷,也就是四氟化碳的四種合成工藝技術(shù)。CF4四氟化碳應(yīng)用在電子工業(yè)中要有較高的純度,所以需要對(duì)四氟化碳產(chǎn)品進(jìn)行精制,我們常用到的四氟化碳合成方法主要有以下幾種。
1、烷烴直接氟化法
? ? ? 工業(yè)上最早就是采用這種方法來(lái)制備氟代烷烴的,但該反應(yīng)是劇烈放熱和難以控制的,需要采用特別的措施。
? ? ? 杜邦(法國(guó))公司的專(zhuān)利,介紹了一種在有催化劑存在下,使甲烷與Cl2和HF于氣態(tài)下反應(yīng)來(lái)制備CF4的方法。反應(yīng)式如下:
? ? ? CH4 + 4Cl2 + 4HF —→ CF4 + 8HCl
? ? ? 反應(yīng)在一個(gè)填充催化劑的管式反應(yīng)器或流化床反應(yīng)器中進(jìn)行,采用預(yù)先經(jīng)HF活化的金屬氧化物或鹵化物作催化劑,特別是Al2O3、Cr2O3和CoCl2。提高Cl2和HF的用量及反應(yīng)溫度有利于CF4生成,控制反應(yīng)溫度在450~550℃,反應(yīng)物接觸時(shí)間在0.5~5s。在具體例子中,用HF活化的Cr2O3作催化劑,控制CH4、Cl2和HF的摩爾比在1:5:7,反應(yīng)溫度500℃,接觸時(shí)間0.8s。產(chǎn)物經(jīng)堿洗、水洗和干燥后,用氣相色譜(GC)分析,組成為:CF468.6%、CHF322.2%、CF3Cl8.3%、CH40.1%、其他0.8%(質(zhì)量分?jǐn)?shù))。
? ? ? 研究發(fā)現(xiàn),提高氟化溫度可增加CF4的純度和收率。俄羅斯專(zhuān)利報(bào)道了一種在1200~1600℃下用F2氟化丙烷和丁烷混合物來(lái)制備高純CF4的工藝。產(chǎn)物先用P2O5處理,然后經(jīng)2段精餾,最后在50~60℃下用NaA或CaA沸石處理,純度可達(dá)99.9999%以上。然而,該方法在如此高的溫度下處理F2,對(duì)設(shè)備的材質(zhì)要求極高。
? ? ? 總之,該方法的優(yōu)點(diǎn)是工藝成熟,操作簡(jiǎn)單,原料易得。但該方法也存在反應(yīng)不易控制,產(chǎn)物復(fù)雜,收率低等缺點(diǎn),最終將被其他工藝所淘汰。
2、氟氯甲烷氟化法
? ? ? 很早就有用氟氯甲烷與HF進(jìn)行氣相反應(yīng)來(lái)制備CF4的報(bào)道,由于氟氯甲烷的氟化較相應(yīng)的甲烷困難,因此反應(yīng)多在有催化劑的條件下進(jìn)行,催化劑通常使用含Cr的化合物。
? ? ? 日本大金工業(yè)株式會(huì)社的專(zhuān)利報(bào)道了一種通過(guò)多段反應(yīng)生產(chǎn)高純CF4的工藝。第1段反應(yīng)是在填充有CrO2F2催化劑的流化床反應(yīng)器中使CF3Cl與HF反應(yīng),反應(yīng)式如下:
? ? ? CF3Cl + HF —→ CF4 + HCl
? ? ? 所用催化劑可通過(guò)Cr(Ⅲ)氫氧化物與HF在200~600℃下反應(yīng),或CrF3?3H2O在O2存在下于350~750℃下加熱制得。CF3Cl與HF的摩爾比控制在1:2~8,氣體空速為10~150h-1,反應(yīng)溫度380~420℃。第1段生成的氣體經(jīng)水洗、堿洗、干燥后進(jìn)入第2段反應(yīng)。
? ? ? 在第2段反應(yīng)中,再通入HF,使CF3Cl與HF的摩爾比控制在1:0.3~5,氣體空速在10~300h-1,反應(yīng)溫度不變。用這種方法可使未反應(yīng)的CF3Cl摩爾分?jǐn)?shù)控制在15×10-6以下,產(chǎn)物有較高的純度。
? ? ? 昭和電工株式會(huì)社的專(zhuān)利報(bào)道了一種類(lèi)似的工藝,它采用γ-CrOOH/環(huán)辛四烯固體復(fù)合催化劑,在2段反應(yīng)器中用HF氟化CH2F2,CF4的產(chǎn)率分別為88%和87%。
? ? ? 法國(guó)阿托化學(xué)公司的專(zhuān)利報(bào)道了一種在承載催化劑上用HF氣相氟化CF3Cl來(lái)制備CF4的工藝。該承載催化劑是用CrO3水溶液浸泡活性炭,然后在150℃下干燥制成的?;钚蕴康目偙缺砻娣e為1000~2000m2/g,粒徑100~3000μm,其中小孔半徑在(40~50)×10-10m,比表面積在5~15m2/g;大孔半徑大于250×10-10m,比表面積為2~6m2/g。在干燥后,大部分CrO3被還原為Cr2O3,可用HF進(jìn)行活化,使其表面生成少量CrF3,以增加催化劑活性。在具體實(shí)例中,控制HF與CF3Cl的摩爾比為1.55:1,反應(yīng)溫度450℃,接觸時(shí)間3.72s,HF轉(zhuǎn)化率為47%,CF3Cl生產(chǎn)CF4的選擇率為73%。
? ? ? 昭和電工株式會(huì)社的專(zhuān)利介紹了一種在催化劑存在下用F2氟化氟氯甲烷來(lái)制備CF4的工藝。通過(guò)AlCl3、Al(OH)3、Al2O3或金屬Al與HF反應(yīng)制成催化劑,它可單獨(dú)使用,也可將其承載于某種惰性載體(如CaF2等)上,通常將其加工成球狀或粒狀,然后在N2保護(hù)下于300~400℃下干燥活化。采用鎳或蒙乃爾合金制成的固定床或流化床作反應(yīng)器,反應(yīng)溫度控制在100~500℃。在具體實(shí)例中,在鎳制反應(yīng)器中填充100g預(yù)制的AlF3球形催化劑,在干燥N2中于360℃下干燥2h,然后以64.4g/h流量通入CF3Cl,同時(shí)以12.2g/h流量通入F2,反應(yīng)溫度控制在320℃,產(chǎn)物經(jīng)洗滌、干燥,CF4純度達(dá)99.99%,收率99.3%。
? ? ? 昭和電工株式會(huì)社在另一篇專(zhuān)利中介紹了一種在承載催化劑上使HF與氟氯甲烷反應(yīng)來(lái)制備CF4的方法。選用活性Al2O3作催化劑載體,其主體為無(wú)定型態(tài),平均孔徑為(40~500)×10-10m。為避免催化劑中毒,載體中雜質(zhì)的摩爾分?jǐn)?shù)應(yīng)滿足:Na<100×10 sup="">-6、Si<300×10 sup="">-6、Fe<100×10 sup="">-6。用過(guò)渡金屬鹽的水溶液浸泡載體,然后干燥,再于200~500℃的空氣中煅燒,最后在450℃以下用HF活化處理即制成催化劑。氟化反應(yīng)在固定床反應(yīng)器中進(jìn)行,溫度200~460℃,HF與氯氟甲烷的摩爾比控制在0.5~3。在具體實(shí)例中,用NiCl2?6H2O水溶液浸泡純度在99.93%以上的球形Al2O3,該載體的平均孔徑為270×10-10m,BET比表面積190m2/g。經(jīng)干燥、煅燒、活化制成催化劑,其中NiO和Al2O3的質(zhì)量分?jǐn)?shù)分別為23.7%和76.3%。將該催化劑填充在一個(gè)鎳管反應(yīng)器中,控制HF與CF2Cl2的摩爾比為0.6,反應(yīng)溫度300℃,空速180h-1。產(chǎn)物經(jīng)提純后分析,CF4的收率為40.4%,選擇率99%,催化劑效率180gCF4/L?h。
? ? ? 昭和電工株式會(huì)社的專(zhuān)利還介紹了一種在催化劑存在下用Cl2和HF氟化含氫鹵代甲烷來(lái)制備CF4的工藝。催化劑通常采用Cr的氯化物、氟化物、氧化物、氧氟化物及其混合物,在高溫高壓下制成球形,然后用HF進(jìn)行活化。反應(yīng)溫度控制在200~500℃,Cl2的摩爾數(shù)是鹵烷中氫原子摩爾數(shù)的1~10倍,HF的摩爾數(shù)是鹵烷中氫原子和氯原子摩爾數(shù)總和的0.25~2.0倍。在具體實(shí)例中,在一個(gè)管式反應(yīng)器中填充100ml預(yù)制的催化劑,在N2保護(hù)下升溫至449℃,以摩爾比1:1.2:3.6通入CHCl3、Cl2和HF,標(biāo)準(zhǔn)空速251h-1。產(chǎn)物經(jīng)水洗、干燥后分析,CHCl3轉(zhuǎn)化率為99.8%,CF4選擇率為29.1%。
? ? ? 總之,氟氯甲烷氟化法的優(yōu)點(diǎn)在于工藝簡(jiǎn)單,操作安全,多數(shù)情況下不需使用昂貴的F2,設(shè)備投資低。但隨著CFC和HCFC的逐步禁用,該工藝的原料來(lái)源受到限制,最終將停止使用。
3、氫氟甲烷氟化法
? ? ? 昭和電工株式會(huì)社的專(zhuān)利介紹了一種在惰性氣體保護(hù)下用F2直接氟化氫氟甲烷來(lái)生產(chǎn)CF4的工藝。反應(yīng)式如下:
? ? ? CH2F2? +? 2F2 ─→ CF4? + 2HF? (生成焓:-1082.62kJmol)
? ? ? CHF3? ?+? ?F2 ─→ CF4? + HF? ?(生成焓:-501.6kJ/mol)
? ? ? 可見(jiàn),采用含氟量高的氫氟甲烷作原料不僅可節(jié)省F2的用量,還有利于減少反應(yīng)放出的熱量。為防止爆炸和積炭,反應(yīng)在稀釋氣存在下進(jìn)行,可取的稀釋氣有N2、HF和低級(jí)全氟烷烴等。同時(shí)應(yīng)調(diào)節(jié)F2與氫氟甲烷的比例在爆炸極限以外,如控制反應(yīng)器入口處的氫氟甲烷的摩爾分?jǐn)?shù)在8%以內(nèi)。反應(yīng)器由鎳、銦鋼或蒙乃爾合金制成,反應(yīng)溫度控制在200~550℃,壓力0~3MPa,接觸時(shí)間3~20s。在具體實(shí)例中,以30L/h流量向反應(yīng)器中通入N2,再以50L/h流量通入HF,將混合稀釋氣分為2股,以1.8L/h流量向其中一股通CH2F2,再以3.9L/h流量向另一股中通F2,控制反應(yīng)器入口CH2F2摩爾分?jǐn)?shù)為2.1%,于280℃下反應(yīng)3h。用KOH溶液和KI溶液處理產(chǎn)品氣,以除去HF和未反應(yīng)的F2,用GC分析知產(chǎn)物組成為CF499.04%、C2F60.03%、CH2F2少量、其他(主要是CO2)0.93%(質(zhì)量分?jǐn)?shù))。
? ? ? 在上述工藝中,若反應(yīng)體系中含有氧,則會(huì)生成含氧雜質(zhì),它們可與產(chǎn)品氣形成共沸物,通過(guò)傳統(tǒng)的精餾方法難于分離。因此,昭和電工株式會(huì)社在一篇類(lèi)似的專(zhuān)利中控制反應(yīng)體系中的氧的體積分?jǐn)?shù)小于2%,產(chǎn)品經(jīng)提純,CF4的純度可達(dá)99.9997%,含氧雜質(zhì)的體積分?jǐn)?shù)小于0.5×10-6。俄羅斯也有類(lèi)似的專(zhuān)利,在反應(yīng)器中填充有金屬填料,控制反應(yīng)體系中氧體積分?jǐn)?shù)在0.05%~0.2%,使CHF3與F2在100~400℃下反應(yīng),大大提高了反應(yīng)的效率。
? ? ? 在循環(huán)稀釋氣存在下向第1反應(yīng)器中通入CHF3和F2,控制入口處CHF3摩爾分?jǐn)?shù)在2.1%,F(xiàn)2與CHF3的摩爾比為1.51,反應(yīng)溫度370℃,壓力為1.5MPa。從第1反應(yīng)器出來(lái)產(chǎn)品氣與一個(gè)F2和1,1,2,2-四氟乙烷的混合氣流匯合后進(jìn)入第2反應(yīng)器??刂迫肟谔幩姆彝榈哪柗?jǐn)?shù)為1.35%,F(xiàn)2與四氟乙烷的摩爾比為2.06,反應(yīng)溫度370℃,壓力1.5MPa。從第2反應(yīng)器出來(lái)的產(chǎn)品被分為2股,一股作為稀釋氣返回第1反應(yīng)器,另一股進(jìn)入精餾提純裝置。用該方法可同時(shí)生產(chǎn)2種全氟烷,大大提高了F2的利用率和精餾裝置的效率,節(jié)省了生產(chǎn)成本。
? ? ? 在用氫氟甲烷與F2反應(yīng)制備CF4時(shí),為提高產(chǎn)物收率,通常使用過(guò)量的F2,這樣會(huì)導(dǎo)致最終產(chǎn)品中含有殘余的F2,從而給精制工序帶來(lái)困難。為解決該問(wèn)題,昭和電工株式會(huì)社采用先使氫氟甲烷與過(guò)量的F2反應(yīng),然后使生成的氣體于另一反應(yīng)器中與超過(guò)化學(xué)計(jì)量至少1.1倍的同種氫氟甲烷混合的方法,可使產(chǎn)品氣中F2的體積分?jǐn)?shù)降至1×10-6以下。
? ? ? 總之,氫氟甲烷氟化法是一種適合工業(yè)化推廣的生產(chǎn)CF4的方法,它具有工藝簡(jiǎn)單、不需使用催化劑、CF4的收率和純度高等優(yōu)點(diǎn)。但目前作為原料的氫氟甲烷的價(jià)格相對(duì)較高,限制了工業(yè)化裝置的規(guī)模。
4、氟碳直接合成法
? ? ? CF4最早就是通過(guò)氟碳直接反應(yīng)法制得的,該方法經(jīng)過(guò)不斷的發(fā)展與完善,如今已成為工業(yè)上制備全氟烷的最主要的方法之一。
? ? ? 日本關(guān)東電化株式會(huì)社的專(zhuān)利介紹了一種在抑爆劑存在下使碳與F2反應(yīng)來(lái)制備高純CF4的工藝。采用氟化鹵素作抑爆劑,特別是BrF3。使用60目的石油焦碳,反應(yīng)器由耐腐蝕的軟鋼制成。工藝有2種流程。
? ? ? 通過(guò)泵從接受器中將BrF3抽出并送入反應(yīng)器的頂部,從反應(yīng)器頂部加入碳粒,同時(shí)從頂部的另一側(cè)通入純F2。維持體系在127℃下反應(yīng),此時(shí)BrF3開(kāi)始?xì)饣I傻幕旌蠚馀cBrF3液體向下流動(dòng),經(jīng)冷凝器冷卻至30℃后,液體BrF3進(jìn)入接受器中循環(huán)。粗CF4氣從接受器上方導(dǎo)出,經(jīng)深冷回收夾帶的BrF3后提純,最終得到高純CF4。
? ? ? 反應(yīng)器下部?jī)?chǔ)有BrF3液體,供應(yīng)碳粒和純氟,使其在液體BrF3中反應(yīng),溫度維持在127℃。生成的氣體從上方進(jìn)入冷卻器,冷卻器中設(shè)有許多垂直向下的管道,通過(guò)外通冷卻水使部分BrF3冷凝為液體,粗CF4和BrF3液體進(jìn)入冷凝器,使BrF3進(jìn)一步冷凝。最后,BrF3液體進(jìn)入接受器,通過(guò)泵循環(huán)回反應(yīng)器。粗CF4從接受器上方導(dǎo)出,此后的操作與第一種流程完全相同。用這種工藝得到的CF4可滿足電子蝕刻氣的需求。
? ? ? 在鎳制圓筒形反應(yīng)器中預(yù)先填充一定量的焦炭,通過(guò)鼓風(fēng)機(jī)從底部向反應(yīng)器中鼓入CF4,5min后停止并升溫至350℃。然后從反應(yīng)器下部通入F2和IF5,從反應(yīng)器上部通入F2和焦炭,使反應(yīng)在上部F2過(guò)量、下部焦炭過(guò)量,并有IF5存在的條件下進(jìn)行。生成的氣體從反應(yīng)器頂部導(dǎo)出,進(jìn)入冷凝器,通過(guò)水冷使部分IF5液化并進(jìn)入接受器。其余氣體進(jìn)入深冷器,于-120℃下使殘余IF5固化,然后加熱液化后流回接受器。未凝氣體進(jìn)入CF4冷凝器,于-140~-135℃下使之液化,儲(chǔ)于CF4儲(chǔ)槽中,未凝氣體借助鼓風(fēng)機(jī)循環(huán)回反應(yīng)器。接受器中的IF5部分被抽出氣化,循環(huán)回反應(yīng)器。最后使儲(chǔ)槽中的CF4氣化,用KOH和K2SO3溶液洗滌,再經(jīng)Al2O3脫水,純度可達(dá)99.999%以上。
? ? ? 研究在50~450℃、F2分壓10.13kPa條件下活性炭與F2的反應(yīng)機(jī)理。發(fā)現(xiàn)在250℃以下反應(yīng)時(shí),主要生成CFx(0.3≤x≤0.95),且隨溫度升高,x值增加。當(dāng)溫度達(dá)300℃以上時(shí),同時(shí)生成CF4和C2F6。俄羅斯專(zhuān)利[34]采用在300~600℃下使石墨與F2 反應(yīng),然后使生成的氟化石墨在600℃下進(jìn)行2段加熱處理,產(chǎn)物主要是CF4。該方法操作安全,并有高的效率。
? ? ? 另有俄羅斯專(zhuān)利采用電解KF?2HF生成的含HF的陽(yáng)極氣作氟源,使之在700~1200℃下與含質(zhì)量分?jǐn)?shù)5%~25%活性炭的不同級(jí)別的木炭反應(yīng)來(lái)制備CF4。陽(yáng)極氣中的HF兼作稀釋氣,產(chǎn)物經(jīng)水洗、堿洗得到純CF4。
? ? ? 總之,氟碳直接反應(yīng)法的優(yōu)點(diǎn)表現(xiàn)在原料易得,反應(yīng)可控,產(chǎn)物純度高。據(jù)稱該方法已被美國(guó)空氣產(chǎn)品公司(AP)實(shí)現(xiàn)工業(yè)化生產(chǎn),產(chǎn)品純度達(dá)99.99%以上,可滿足電子工業(yè)的需求。
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