開局

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快捷鍵

Alt + 左鍵：平移

左鍵按壓空白區(qū)域拖動(dòng)：旋轉(zhuǎn)? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?? ?

Alt +?左鍵?→ 松Alt：縮放? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ??按住?Ctrl?右鍵拖動(dòng)：縮放?

按住Alt進(jìn)行雕刻：凹陷或外凸

按住Shift進(jìn)行雕刻：平滑

按住 Ctrl 雕刻：遮罩? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ???按住 Ctrl 空白處框選：取消遮罩? ? ??

按住 Ctrl + Alt 雕刻：擦除遮罩? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?? ??按住?Ctrl?空白處點(diǎn)擊：反選遮罩? ? ? ??

按住 Ctrl點(diǎn)擊模型：模糊遮罩? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?? ?按住 Ctrl + Alt 點(diǎn)擊模型：銳化遮罩

Ctrl + A：將模型全部遮罩

Ctrl + W：將當(dāng)前顯示物體編組，或?qū)⒄谡治矬w編組（編為同一組）

W E R：移動(dòng)、旋轉(zhuǎn)、縮放? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? Y：切換軸形態(tài)

空格：筆刷、強(qiáng)度、顏色……快捷對(duì)話框? ? ? ? ? ? ? ??

S：My Tools? ? ? ? ? ? ? ? ?V：Quick Tools? ? ? ? ? ? ? ? G：My View

Ctrl + 】：圖層上移? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?Ctrl + 【：圖層下移

，<：打開 / 關(guān)閉 燈箱

Shift +R：重復(fù)上一步? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? Ctrl + Shift + R：鼠標(biāo)指針處重復(fù)上一步

F2：生成多邊形網(wǎng)格（轉(zhuǎn)換為可編輯多邊形）

Alt + Q：孤立顯示

Shift + F：顯示線框切換? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?

打開坐標(biāo)軸時(shí)?按住Alt + 左鍵點(diǎn)擊：將坐標(biāo)軸移動(dòng)到點(diǎn)擊處 （類似Blender定位游標(biāo)位置）

打開坐標(biāo)軸時(shí)?按住Ctrl + 拖動(dòng)坐標(biāo)軸：復(fù)制模型

F：模型視口最大化

B：打開筆刷包

X：打開 / 關(guān)閉對(duì)稱? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 變換——激活對(duì)稱——X? Y? Z 選擇對(duì)稱方向

C：吸色（吸管工具）

P：透視? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? Shift + P：顯示 / 隱藏網(wǎng)格?

N：渲染

Alt：反向雕刻

Ctrl + N：清除畫布

Ctrl + D：增加細(xì)分

Shift + D：上一級(jí)細(xì)分

D：下一級(jí)細(xì)分

Ctrl + X：刪除

Alt+E：向下合并

Shift + E：復(fù)制當(dāng)前圖層

G：仿制圖章?

（按一下G，筆刷框變成藍(lán)色，在模型上繪制的區(qū)域會(huì)創(chuàng)建Alpha，再在模型其它區(qū)域繪制）

Shift + Z：打開聚光燈? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?Z：顯示 / 關(guān)閉 輪盤

0：畫布最大化? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?Ctrl + 0：畫布一半大小

按住Shift同時(shí)點(diǎn)擊圖層上的眼睛全部打開或關(guān)閉圖層；

雕刻前：變換目標(biāo)——存儲(chǔ)變換目標(biāo)，雕刻后不滿意，可使用Morph筆刷擦除；

新建圖層后再雕刻，雕刻會(huì)記錄在圖層上面，可以刪除圖層或者拖動(dòng)圖層強(qiáng)度滑塊。

自定義快捷鍵：選中命令圖標(biāo)，Ctrl + Alt + 左擊?→自定義快捷鍵（在鍵盤上按一個(gè)鍵）

設(shè)置完快捷鍵需要：首選項(xiàng)——熱鍵——保存。

自定義用戶界面：

?MAX、MAYA做好的的模型導(dǎo)入到ZBRUSH雕刻前先展UV：

Z插件——UV大師——開卷（點(diǎn)擊平面化查看一下效果）

?ZBRUSH做好模型，到MAX或MAYA拓?fù)渲埃枰M(jìn)行減面處理：

Z插件——抽?。p面）大師——預(yù)處理當(dāng)前子工具（完成后）——抽取當(dāng)前；

抽取百分百是指留下面數(shù)的百分比。

?雕刻比較薄的雙面物體時(shí)，前方的面容易被雕到后方的面后面去，造成穿插，

解決方法：筆刷——自動(dòng)遮罩——打開“背面遮罩”。

?導(dǎo)入模型前新建一個(gè)替身模型，導(dǎo)入的模型會(huì)代替這個(gè)替身模型。