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HZR702相近牌號(hào)

美國(guó)

R60702

激光熔覆技術(shù) 激光熔覆技術(shù)是指以不同的填料方式在被涂覆基體表面上放置選擇的涂層材料， 經(jīng)激光輻照使之和基體表面一薄層同時(shí)熔化， 并快速凝固后形成稀釋度極低并與基體材料成冶金結(jié)合的表面涂層， 從而顯著改善基體材料表面的耐磨、 耐蝕、 耐熱、 抗氧化及電器特性等的工藝方法。

HZR702執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)

牌號(hào)

ASTM

HZR702

B550

以 Cr － Si － Ni 高純預(yù)合金化粉末為原料， 利用激光熔敷技術(shù)在奧氏體不銹鋼 Cr18Ni9Ti表面上制得了 以金屬硅化物 Cr 3 Si 為增強(qiáng)相、 以復(fù)雜多元金屬硅化物 Cr 2 Ni 3 Si 為基體的快速凝固金屬硅化物復(fù)合材料冶金涂層， 而得到一種高溫耐磨材料。利用激光熔覆技術(shù)制得一種刷式密封高溫耐磨復(fù)合材料涂層。采用添加固體潤(rùn)滑劑 WS 2 的激光熔覆技術(shù)制備得到了 一種高溫耐磨復(fù)合涂層。

HZR702化學(xué)成分

牌號(hào)

Zr+Hf

Hf

Fe+Cr

C

N

H

O

R60702

≥99.2

≤4.5

0.2

0.05

0.025

0.005

0.16

電沉積技術(shù) 電沉積技術(shù)是指金屬或合金從其化合物水溶液、非水溶液或熔鹽中的金屬離子或絡(luò)合金屬離子通過(guò)電化學(xué)途徑在材料表面形成金屬或合金鍍層的過(guò)程。 采用熔鹽電沉積可以在材料表面獲得致密、均勻的沉積層。

HZR702物理性能

密度g/cm3

熔點(diǎn)℃

6.5

1852采用脈沖熔鹽電沉積技術(shù)在銅表面制備得到了 Cu － Si 高溫耐磨材料鍍層， 并對(duì)材料的性能進(jìn)行了 分析， 結(jié)果表明， 該沉積層顯著地提高了材料的高溫耐磨性能， 沉積層與基體是通過(guò)互擴(kuò)散結(jié)合和外延生長(zhǎng)結(jié)合的綜合作用緊密結(jié)合在一起，使得材料具有優(yōu)異的結(jié)合性能。

鋯702的耐腐蝕性能

鋯是活潑金屬，與氧有極強(qiáng)的親和力。當(dāng)鋯在氧化介質(zhì)中時(shí)，表面會(huì)自發(fā)形成附著性良好的保護(hù)性氧化膜。這層氧化膜在氧存在的條件下具有極強(qiáng)的自愈能力，可以在300℃下保護(hù)鋯基體不受腐蝕破壞。因此錯(cuò)是一種耐腐蝕的金屬。其化學(xué)穩(wěn)定性優(yōu)于鎮(zhèn)基合金，強(qiáng)于高級(jí)不銹鋼、鈦及其合金。鋯特別突出的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是抗還原性酸的腐蝕，也就是說(shuō)在硫酸、鹽酸等酸中具有十分優(yōu)異的耐蝕性，這正好是鈦在耐腐蝕性上的不足。在大多數(shù)無(wú)機(jī)酸、有機(jī)酸、堿溶液、鹽溶液和某些熔鹽中，鋯是很耐蝕的。但在少數(shù)介質(zhì)，如氫氟酸、氯化鐵、氯化銅、王水、濃硫酸、濕氯氣等中是不耐蝕的。對(duì)高溫和高壓的水、蒸氣及液態(tài)金屬也具有耐蝕性。

1.工業(yè)純皓在所有的沸騰的所有濃度鹽酸中，腐蝕速率均小于0.025mm/a。

2.在濃度不超過(guò)70%的硫酸中鋯具有優(yōu)異的耐蝕性。此外由于不銹鋼和鎳合金不能在高溫、20%的硫酸和40-60%的沸騰溫度以下的硫酸范圍內(nèi)使用，故鋯在硫酸環(huán)境具有無(wú)可替代的作用。