重要性及意義

氣態(tài)化學污染物，是指空氣中以氣體或蒸氣形式存在的分子級污染物，在微電子潔凈室環(huán)境中，因此氣態(tài)化學污染物也稱為氣態(tài)分子污染物（Airborne Molecular Continent，AMC）

隨著芯片尺寸不斷趨向3nm或者更低，對潔凈室環(huán)境的監(jiān)控成為晶圓廠主要關注。ppt（十萬億分之一）超低濃度的分子級氣態(tài)化學污染物成為影響產(chǎn)業(yè)發(fā)展和產(chǎn)量的主要因素。AMC分子污染物的尺寸比粒子要小5000倍及以上，AMC在半導體制造柵底氧化、薄膜沉積、多晶硅和硅化物形成、接觸成型、光刻等多個關鍵工藝上對晶片表面、設備表面產(chǎn)生侵蝕，還會產(chǎn)生非控制性硼化物或磷化物摻雜、晶圓表面或光學鏡面產(chǎn)生陰霾、微粒產(chǎn)塵等危害，從而大大影響了產(chǎn)品的質量。因此需要以極高的靈敏度實時監(jiān)控AMC以防止晶圓上有覆蓋。

根據(jù)潔凈室的特性，在國際半導體設備及材料協(xié)會SEMIF21-1102和國家GB/T25915.8-2021的標準中將潔凈室中的空氣污染物有詳細要求：

1，酸性污染物（MA），鹽酸、硝酸、硫酸、氫氟酸等，能夠誘發(fā)硼污染；

2，堿性污染物（MB），主要是氨氣，會造成保護層顯影不良；

3，可凝性污染物（MC）,CXF，DOP，DBP，DEP，Siloxanes，Bp＞150℃

4，摻雜性污染物（MD），B2H6、BF3、AsH3，TCEP、TEP、TPP

5，金屬污染物（MM）;

???面對日益精進的制程工藝，AMC監(jiān)測技術也在不斷升級，瑞零科技推出的全新一代AMC在線監(jiān)測系統(tǒng)，結合FFU，將晶圓盒內部和潔凈室內部實時監(jiān)控，ppt級極高靈敏度和濃度報警機制，能及時反饋給廠務端，從而控制好污染物釋放，保證良品率。

???瑞零科技將長期致力于AMC在線監(jiān)測系統(tǒng)的持續(xù)精進，在制程工藝的過程中，瑞零科技不斷深耕，有過程光刻機內部、晶圓盒內部AMC監(jiān)測及AMC監(jiān)測和清潔設備一體化設備，將大大降低工藝過程污染，提升良品率。