姚向東/陳俊Nature子刊:揭示缺陷碳基電催化劑的動態(tài)活性位點
無金屬碳材料中活性位點的確定對于開發(fā)實用的電催化劑至關(guān)重要,但由于反應(yīng)過程中動態(tài)結(jié)構(gòu)演變過程難以捉摸,因此確定活性位點的精確構(gòu)型還是一個挑戰(zhàn)。
基于此,吉林大學(xué)姚向東教授和臥龍崗大學(xué)陳俊等人報道了通過對缺陷密度和碳上O-基團類型的可控操縱來揭示缺陷位點的性質(zhì),包括構(gòu)建缺陷密度與過氧化氫(H2O2)法拉第效率之間的相關(guān)性。結(jié)果表明,缺陷密度最高的氧修飾缺陷石墨烯-30(O-DG-30)催化劑具有優(yōu)異的H2O2法拉第效率(~98.38±1.6%)。
通過DFT計算,作者研究了有關(guān)活性羰基修飾五邊形缺陷性質(zhì)的原子見解。鑒于醌和羰基在O-DG-30上共存,作者提出了多種模型結(jié)構(gòu),主要包括在缺陷部位的鋸齒形邊緣和扶手椅形邊緣上錨定的潛在O-基所建立的構(gòu)型。
對于2e? ORR,熱力學(xué)平衡勢對應(yīng)于活火山圖的頂點。在理論上,具有最大活性的催化劑應(yīng)有4.22 eV的GOOH*。C1和C2模型的ORR活性最低,說明羧基不是影響O-DG-30 ORR活性的主要因素。
D2模型活性最高,UL和ΔG OOH*值分別為0.683 V和4.217 eV,非常接近理論理想值,B1和A1模型在火山地塊上的位置與D2模型非常接近。
需注意,O基團錨定在位于鋸齒形和扶手椅邊交界處的六邊形上,而不是碳晶格中的富集位點。羰基修飾的五邊形缺陷(C5=O)可視為O-DG-30生成H2O2的主要活性位點,因此O-DG-30催化劑具有最高的缺陷密度,為特定的O基團修飾提供了足夠的位點,從而最大化了2e- ORR性能。
Unveiling the dynamic active site of defective carbon-based electrocatalysts for hydrogen peroxide production. Nat. Commun., 2023, DOI: 10.1038/s41467-023-41947-7.