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晶圓甩干機（spin rinse dryer,SRD），是一種常見的半導體清洗后干燥的方法，用途十分廣泛，了解半導體制程的小伙伴應該不會陌生。具體來說，晶圓在濕化學過程后需要清洗和干燥，SRD可以對整個晶圓進行自動處理。
SRD工作原理
SRD的工作是漂洗和干燥晶圓舟中的成批晶圓。晶片通常被裝入不銹鋼滾筒或腔室中，然后在旋轉的同時注入 DI（去離子水）以沖洗掉先前工藝步驟中遺留下來的任何顆粒。
晶圓的干燥通常是通過以大約 3000-10,000 rpm 的速度旋轉晶片，同時將加熱的氮氣注入腔室中。當然，靜電會在干燥時會積聚，這可能會使顆粒粘附在表面上，甚至損壞一些精密設備，可以通過靜電消除部件來減少該類現象的發(fā)生。 SRD設備的一些關鍵功能和特點：配有一個電阻率探針，可以監(jiān)測腔室內的化學濃度，以確保化學物質的完全去除。電阻率是一種衡量物質對電流的阻礙程度的指標。在SRD設備中，如果沖洗水的電阻率下降，這可能意味著水中的化學物質濃度增加，也就是說，還有化學溶液殘留在晶圓表面。通過監(jiān)測電阻率，設備可以確保沖洗過程的徹底性，從而提高清洗的質量。
2，配備氮氣加熱器，可以進行無斑點干燥。氮氣是一種惰性氣體，不會與晶圓表面的材料發(fā)生化學反應，因此可以防止在干燥過程中對晶圓造成任何化學損害。當氮氣被加熱后，其可以更有效地吸收晶圓表面的水分，從而提高干燥的效率。另外，由于加熱的氮氣流可以對晶圓表面形成一個均勻的熱流，這有助于保證晶圓干燥的均勻性，防止在晶圓表面形成水斑。因此，氮氣加熱器是SRD設備中一個重要的配置，可以幫助提高半導體清洗后的干燥效果和質量。
3，可編程的recipes（配方）。"recipe"指的是設備操作的一系列參數和步驟，這些參數和步驟會影響到設備的性能和處理結果。Recipe可以包括很多種不同的設置，例如沖洗時間、干燥時間、旋轉速度、氮氣的流速和溫度等。通過調整這些設置，可以優(yōu)化設備的操作，以適應不同的清洗需求和目標。
以下是一些常見的recipe考慮因素： 沖洗時間：沖洗時間的長短會影響到化學溶液的去除效果。如果沖洗時間過短，可能會有化學溶液殘留在晶圓表面；如果沖洗時間過長，則可能會造成資源浪費。
干燥時間：干燥時間的長短會影響到晶圓的干燥程度。如果干燥時間過短，可能會有水分殘留在晶圓表面；如果干燥時間過長，則可能會對晶圓造成熱損傷。
旋轉速度：旋轉速度的快慢會影響到離心力的大小，從而影響到沖洗和干燥的效果。如果旋轉速度過慢，可能無法有效地去除化學溶液和水分；如果旋轉速度過快，則可能會對晶圓造成機械損傷。 氮氣的流速和溫度：氮氣的流速和溫度會影響到干燥的效率和質量。如果氮氣的流速過慢或溫度過低，可能無法有效地去除水分；如果氮氣的流速過快或溫度過高，則可能會對晶圓造成熱損傷。轉載需注明出自本處。
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