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XNormal中的環(huán)境光遮擋烘焙與設(shè)置

2020-09-12 23:06 作者:Game藝視界 0人讀過 | 我要投稿

在開始環(huán)境光遮擋渲染之前，您首先必須創(chuàng)建一個地面以使光反彈。大型飛機在大多數(shù)情況下都可以工作，但有時無法以正確的角度工作。如果發(fā)生這種情況，我將創(chuàng)建一個球體并將其刪除一半以制成一個碗。如果網(wǎng)格物體的位置過于靠近底部，則環(huán)境光遮擋貼圖將非常暗，因此我將模型的頂部與碗的邊緣對齊。有時我會繪制出這兩個地圖并將它們組合在一起。咬合地板應(yīng)始終裝入高多邊形網(wǎng)格。（在烘焙ao前創(chuàng)建一個很大的平面，這個平面大多數(shù)情況會正常工作有時候也不工作。如果不工作我將新建一個球體刪除一半做成一個碗樣子。面片不能離底模的網(wǎng)格物體太近會造成網(wǎng)格底部過暗，因此我將模型和碗口保持在一個平面，這兩種物體應(yīng)該加載在高模meshes 使用一種方式就可以了）為了烘焙頂?shù)钻P(guān)系。

軟件版本原因有些設(shè)置不相同大家參考下就好

閾值：遮擋圖準確性。數(shù)字越小，遮擋渲染越精確。

在“要渲染的地圖”字段中加載“環(huán)境光遮擋”后，單擊...按鈕，將打開一個新的選項窗口。

光線和自適應(yīng)間隔：數(shù)字越大，越準確。兩者應(yīng)該是相同的數(shù)字。

發(fā)行：我想把這個留在制服上

最小值和最大值控制您希望地圖具有的值范圍。

我將偏差保持在0.00001。

較高的“展開角”將使貼圖更柔和，而表格周圍的對比度較小。

取消選中“限制射線距離”。如果我檢查了它，我往往會得到幾乎白色的地圖。

取消選中“加權(quán)”將產(chǎn)生更強烈的陰影。

衰減值越高，陰影越少，獲得的白色越多。保持這些值接近0或為最低允許值通常會產(chǎn)生更好的遮擋圖。我更改的唯一值是中間列

更改第一衰減值

更改中間衰減值

更改最后的衰減值抖動會將噪聲引入您的陰影中。

我通常使用的設(shè)置

使用法線貼圖創(chuàng)建空腔貼圖

環(huán)境光遮蔽只能捕獲一般的照明信息，因此不能很好地捕獲小的細節(jié)。這就是為什么需要腔圖的原因。在XNormal中，我喜歡渲染2個腔貼圖：一個用來平衡環(huán)境光遮擋的暗度，另一個用于捕捉環(huán)境光遮擋圖錯過的細節(jié)。

空腔貼圖易于渲染，并且可以為您的基本紋理添加很多內(nèi)容。

在XNormal的“工具”選項卡下，將“相切空間法線”加載到“腔體貼圖”工具。

右鍵單擊左側(cè)窗口，然后加載法線貼圖文件。確保將Y坐標(biāo)更改為Y-。

右鍵單擊右側(cè)的“腔體貼圖”窗口以生成或保存腔體貼圖。

“明場”（Bright field）使您可以控制腔圖的整體值。最小值和最大值為-1至1。

對比度控制細節(jié)的清晰度。

XNormal提供了幾種不同的腔體貼圖生成方法，但我發(fā)現(xiàn)最有用的是EDT和EMB。

EDT-看上去與環(huán)境光遮擋貼圖非常相似。好處是，它會根據(jù)您的表面變化（而不是光源）來創(chuàng)建陰影，因此陰影永遠不會太暗。

我個人喜歡“明亮”值-.1，因為默認值0具有亮白色。我還將“ Contast”降低到0，因為我將在下一個腔體貼圖中得到我的詳細信息。

EMB-創(chuàng)建一個腔圖，僅在小細節(jié)區(qū)域內(nèi)提供暗和亮。

在EMB中，Bright的工作方式與在EDT中的方式類似，并將確定型腔貼圖的基本值。對比度可控制細節(jié)的顯示強度和清晰度，但也會影響亮度。如果“對比度”設(shè)置為0，則將獲得黑色圖像。我發(fā)現(xiàn)對比度值1太尖銳，因此我堅持使用.8

這個法線轉(zhuǎn)cv效果不錯可以嘗試轉(zhuǎn)cv

您可以在Photoshop中使用法線貼圖生成與EMB相同類型的腔體貼圖，但是XNormal很好，因為結(jié)果更清晰，更自動化。

此時，我在Photoshop中打開所有地圖。我以環(huán)境光遮擋為基礎(chǔ)，在此之上，我將放置EDT腔體貼圖，并將圖層的混合模式設(shè)置為“屏幕”或“柔光”（使用任何您喜歡的顏色）。這將有助于消除“環(huán)境光遮擋”貼圖中的黑暗。然后，將我的EMB腔貼圖放置在頂部，并將混合模式設(shè)置為“疊加”。