HRTEM晶格條紋間距測(cè)量——DigitalMicrograph(GMS)
2023-03-17 17:07 作者:哦原來(lái)是星星呀 | 我要投稿
1、file——open——文件類型改成all files,找到自己需要的圖片——打開(kāi)如1

2、格式轉(zhuǎn)換:edit——change data type——選integer——OK——OK
3、測(cè)量比例尺:鼠標(biāo)放到比例尺左下角滾動(dòng)滾輪,即可放大圖片——鼠標(biāo)右鍵,換成使用虛線(如2)——拉出一條和比例尺一樣長(zhǎng)度得線(如3)——microscope——calibrate image——輸入比例尺對(duì)應(yīng)的長(zhǎng)度和單位(如4)——OK



4、測(cè)量晶格條紋:在需要測(cè)量晶格條紋的位置放大——右鍵鼠標(biāo),切換為矩形——框住對(duì)應(yīng)晶格條紋區(qū)域(按著ctrl和shift框?yàn)檎叫稳?)——progress——FFT出現(xiàn)6所示得兩個(gè)亮點(diǎn)——右鍵鼠標(biāo),選擇spot(如7)——在右上角亮點(diǎn)上單擊會(huì)把兩個(gè)亮點(diǎn)選中——progress——inverse FFT得到如8——在新出現(xiàn)的圖片上右鍵——點(diǎn)最后一個(gè)profile——拉出一條垂直于晶格條紋的線(如9)會(huì)彈出新的藍(lán)色圖片——拖動(dòng)上面拉的線的終點(diǎn),使藍(lán)色峰高度基本一致——在藍(lán)色圖上框出幾個(gè)相對(duì)一致的峰,用出現(xiàn)的長(zhǎng)度除以峰的個(gè)數(shù)即為晶格條紋間距,如10,本例中晶格條紋間距為0.193nm






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