12月15日消息，據(jù)韓國媒體BusinessKorea報導(dǎo)，韓國本土的半導(dǎo)體和顯示材料開發(fā)商——Graphene Lab ?開發(fā)出了基于石墨烯制造的EUV光罩保護膜 (Pellicle)?，有望顯著提高ASML的極紫外光 (EUV) 系統(tǒng)生產(chǎn)芯片的良率。

據(jù)了解，光罩保護膜是一種薄膜，可保護光罩表面免受空氣中微分子或污染物的影響，這對于 5nm或以下節(jié)點制程的先進制程技術(shù)的良率表現(xiàn)至關(guān)重要。另外，光罩保護膜也是一種需要定期更換的消耗品，而由于 EUV光刻設(shè)備的光源波長較短，因此護膜需要較薄厚度來增加透光率。之前，硅已被用于制造光罩護膜，但石墨烯會是一種更好的材料，因為石墨烯制造的光罩保護膜比硅更薄、更透明。

報導(dǎo)還強調(diào)，EUV 光罩護膜必須能夠承受曝光過程中發(fā)生的 800 度或更高的高溫，而基于石墨烯材料的光罩保護膜在高溫下的硬化特性要好，相比之下硅制產(chǎn)品非常容易破裂。

Graphene Lab首席執(zhí)行官Kwon Yong-deok 表示，“光罩護膜過去是由硅制成的，但我們使用了石墨烯，這對于使用 ASML 的 EUV光刻設(shè)備設(shè)備的半導(dǎo)體企業(yè)來說，石墨烯光罩保護膜將成為晶圓制造良率的推進助力。我們已經(jīng)準(zhǔn)備好進行量產(chǎn)?！?/p>

Graphene Lab 指出，一旦石墨烯 EUV 光罩護膜受到采用，估計全球光罩保護膜市場到 2024 年將達到1萬億韓元（約合人民幣53.15億元）的情況下，將有其極大商機。包括臺積電、三星電子、英特爾等頭部半導(dǎo)體制造企業(yè)都將會是 Graphene Lab 的潛在客戶。