近日，臺積電舉行了年度技術(shù)研討會，在會上透露了關(guān)于未來芯片制造業(yè)務(wù)的相關(guān)信息。

根據(jù)臺積電官方公布的信息，臺積電現(xiàn)在占據(jù)了業(yè)界EUV（極紫外光）設(shè)備安裝量的50%。除了業(yè)界EUV設(shè)備安裝量以外，臺積電還擁有約60%的EUV晶圓累計產(chǎn)量。

臺積電官方表示，全新的N7+制程是該公司第一個利用EUV光刻技術(shù)的節(jié)點(diǎn)，并且N5制程將更加傾向于使用EUV光刻技術(shù)。另外，5nm以后的任何產(chǎn)品都將廣泛采用EUV光刻技術(shù)。