書籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》

文章：InP電感耦合刻蝕

編號：JFKJ-21-140

作者：炬豐科技

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論文摘要 ?

? 電感耦合等離子體刻蝕是微電子和光電子制造過程中圖形轉(zhuǎn)移的一種很有前途的低壓高密度工藝。在這項工作中，成功地構(gòu)建了一個以蝕刻InP為目的的ICP系統(tǒng)，InP是一種在光通信和高速集成電路文章全部詳情：壹叁叁伍捌零陸肆叁叁叁中應(yīng)用非常有吸引力的材料。采用不同類型的氣體混合物作為等離子體前驅(qū)體。研究了氣體成分、射頻功率、總流量和壓力對蝕刻速率、蝕刻輪廓和表面形貌的影響。等離子體提供了高選擇性的各向異性刻蝕過程。由于去除in和p的不平衡，蝕刻表面產(chǎn)生了表面粗化和磷耗盡現(xiàn)象。得到鏡面腐蝕表面。在平頂山的側(cè)壁上發(fā)現(xiàn)了一種常見的過切現(xiàn)象，認為是由于SiO2掩膜的侵蝕。

介紹??

? 半導(dǎo)體是一組導(dǎo)電率介于導(dǎo)體和絕緣體之間的材料，這些材料的電學(xué)和光學(xué)性質(zhì)可以通過改變雜質(zhì)含量、熱激發(fā)和光激發(fā)來調(diào)節(jié)。在元素周期表的IVA族中發(fā)現(xiàn)的硅和鍺是兩種元素半導(dǎo)體。此外，IIIA組、VA組、IIB組、VIA組、IVA組的化合物也表現(xiàn)出半導(dǎo)體特性。它們被稱為復(fù)合半導(dǎo)體。半導(dǎo)體在現(xiàn)代電子學(xué)和光電子學(xué)中發(fā)揮著不可或缺的作用。?與金屬和電介質(zhì)材料一起，它們可以制成各種集成電路和器件。

本文講解了等離子體的基本概念，等離子刻蝕，等離子體腐蝕評價等問題。

結(jié)論????略