光照貼圖參數(shù)資源存儲了一組用于控制 Unity?全局光照?(GI) 功能的參數(shù)值。這些資源允許定義和保存不同的光照值集合，以便用于不同的情況。

要創(chuàng)建新的光照貼圖參數(shù)資源，請在 Project 窗口中右鍵單擊，然后選擇?Create?> Lightmap?Parameters 。Unity 將此資源存儲在 Project 文件夾中。

光照貼圖參數(shù)資源可以用來為不同類型的游戲?qū)ο蠡驗椴煌脚_和不同場景類型（例如，室內(nèi)或室外場景）創(chuàng)建優(yōu)化的預(yù)設(shè)。

在 Project 窗口中單擊某個光照貼圖參數(shù)資源時，Inspector 窗口將顯示該資源中定義的值。下表中列出了參數(shù)及其描述。

Precomputed Realtime GI

屬性????????????????????????????????????????????????????????????功能

Resolution????????????????????????????該值在 Lighting 窗口的 Scene 選項卡中縮放?Realtime Resolution?值（菜單：__Window__ >?Lighting?>?Scene__）以提供光照貼圖的最終分辨率（紋理像素/距離單位）。 | |?Cluster Resolution| 聚類分辨率（內(nèi)部計算光反射的分辨率）與最終光照貼圖分辨率的比率。請參閱有關(guān)?Scene 視圖中的 GI 可視化的文檔以了解更多信息。 | |?Irradiance Budget| 此值確定用于照射光照貼圖中每個紋理像素的入射光數(shù)據(jù)的精度。從紋理像素的位置對場景的“視圖”采樣來獲得每個紋理像素的光照。較低的輻照度預(yù)算值會導(dǎo)致樣本更模糊。值越高，樣本的清晰度越高。較高的輻照度預(yù)算會改善光照，但這會增大運行時內(nèi)存使用量并可能增大 CPU 使用率。 | |?Irradiance Quality| 使用滑動條來定義投射的射線數(shù)量，并計算影響給定輸出光照貼圖紋理像素的集合。較高的值可在光照貼圖中實現(xiàn)視覺改善，但會增加 Unity Editor 中的預(yù)計算時間。該值不會影響運行時性能。 | |?Modelling Tolerance| 此值控制網(wǎng)格幾何體中允許光線通過的間隙的最小大小。降低此值可允許光線穿過環(huán)境中更小的間隙。 | |?Edge Stitching| 如果啟用此屬性，則表示光照貼圖中的 UV 圖表應(yīng)無縫連接在一起，從而避免不必要的視覺瑕疵。 | |?Is Transparent| 如果啟用此屬性，在全局光照計算期間，對象顯示將為透明。背面對這些計算沒有影響，光線將穿過表面。這可用于不可見的發(fā)光表面。 | |?System Tag| 光照貼圖紋理組合在同一個光照貼圖圖集內(nèi)的一組對象稱為“系統(tǒng)”。如果無法將所有對象放入單個圖集中，Unity Editor 會自動定義其他系統(tǒng)及其附帶的圖集。但是，有時自己定義單獨的系統(tǒng)會非常有用（例如，確保不同房間內(nèi)的對象分組到每個房間的一個系統(tǒng)中）。更改?System Tag__ 號可強(qiáng)制創(chuàng)建新的系統(tǒng)和光照貼圖。標(biāo)簽的確切數(shù)字序列值不重要。

Baked GI

屬性????????????????????????????????????????????????????????????????功能

????????????????????Enlighten????????????????????????漸進(jìn)光照貼圖 (Progressive Lightmapper)

Blur Radius后期處理過程中應(yīng)用于直接光照的模糊過濾器的半徑（單位：紋理像素）。此半徑基本上是相鄰紋理像素的平均距離。半徑越大，效果越模糊。較高的模糊度往往會減少視覺瑕疵，但也會軟化陰影的邊緣。????使用漸進(jìn)光照貼圖時，__Blur Radius__ 不可用。

Anti-aliasing Samples????應(yīng)用的抗鋸齒程度（減少“塊狀”瑕疵）。數(shù)字越大，質(zhì)量越高且烘焙時間越長。????對紋理像素進(jìn)行超級采樣以減少鋸齒的次數(shù)。采樣次數(shù)為 [1;3] 將禁用超級采樣，采樣次數(shù)為 [4;8] 將提供 2x 超級采樣，而采樣次數(shù)為 [9;256] 提供 4x 超級采樣。此設(shè)置主要影響用于位置和法線緩沖區(qū)的內(nèi)存量（2x 使用 4 倍的內(nèi)存量，4x 使用 16 倍的內(nèi)存量）。

Direct Light Quality用于評估直接光照的光線數(shù)量。較高數(shù)量的光線往往會產(chǎn)生更準(zhǔn)確的柔和陰影，但會增加烘焙時間。????使用漸進(jìn)光照貼圖時，__Direct Light Quality__ 不可用。

Backface Tolerance????網(wǎng)格的結(jié)構(gòu)有時會導(dǎo)致某些紋理像素含有背面帶有幾何體的“視圖”。來自背面的入射光在任何場景中都無意義。因此，此屬性用于選擇有多少光量（百分比閾值）來自正面幾何體才能將紋理像素視為有效。無效紋理像素的光照值通過相鄰紋理像素的值估算得出。降低此值可以解決由背面入射光引起的光照問題。????必須照射到正面才會被視為可用的輸出紋理像素發(fā)射光線的百分比。如果從紋理像素投射的太多光線照射到背面（紋理像素在某個幾何體內(nèi)），紋理像素?zé)o效處理。這種情況下通過從周圍紋理像素克隆有效值來避免瑕疵。例如，如果 Backface Tolerance 為 0.0，則僅在紋理像素只能看到背面的情況下才會拒絕該紋理像素。如果此設(shè)置為 1.0，即使射線原點有一條射線照射到背面，也會拒絕該原點。在“Baked Texel Validity”Scene 視圖模式中，一個箱子可看到有效（綠色）和無效（紅色）紋理像素。如果場景中有單面網(wǎng)格，可能需要通過將值設(shè)置為零來禁用此功能。稍后將在 Editor 中添加雙面標(biāo)志以解決此問題。

Baked Tag????與上文的?System Tag?屬性相似，此數(shù)字表示單獨的烘焙光照貼圖將特定對象集組合在一起。與 System Tag 一樣，確切的數(shù)值并不重要。具有不同 Baked Tag 值的對象絕不會放在同一圖集中；但是，也無法保證具有相同標(biāo)簽的對象最終處于同一圖集中，因為這些對象可能不一定適合放入同一個光照貼圖（有關(guān)此情況的示例，請參閱以下的圖像 A）。使用多場景烘焙 API 時不必設(shè)置此項，因為分組是自動完成的（使用?Baked Tag?來復(fù)制?Lock Atlas?選項的某些行為）。請參閱下文的烘焙標(biāo)簽 (Baked Tags)：詳細(xì)信息以了解更多信息。

Pushoff????開始在建模單元中跟蹤射線之前從表面幾何體推離的距離。此屬性適用于所有烘焙光照貼圖，因此會影響直射光、間接光和 AO。Pushoff?可用于擺脫不必要的 AO 或陰影。使用此設(shè)置可解決對象表面自身陰影遮擋問題，該問題會導(dǎo)致斑點陰影圖案出現(xiàn)在表面上而找不到明顯來源。也可以使用此設(shè)置去除巨型對象上不必要的瑕疵（這種情況下的浮點精度不夠高，無法準(zhǔn)確地對精細(xì)細(xì)節(jié)進(jìn)行射線追蹤）。在建模單元中沿著射線追蹤的法線將射線原點從幾何體推離的量。此屬性適用于所有烘焙光照貼圖，因此會影響直射光、間接光和環(huán)境光遮擋?？捎糜跀[脫不必要的遮擋/陰影。

烘焙標(biāo)簽 (Baked Tags)：詳細(xì)信息

上圖顯示同一場景的兩個視圖：

1.左：__一切都在一個圖集內(nèi)，因為所有的游戲?qū)ο蠖加邢嗤腳_烘焙標(biāo)簽。

2.__右：__向一個游戲?qū)ο蠓峙淞似渌鸰_烘焙標(biāo)簽__，并強(qiáng)制其進(jìn)入第二個光照貼圖。

Baked AO

屬性????????????????????????????????????????????????????????????????????功能

Quality????????????????????????????????????????評估環(huán)境光遮擋 (AO) 時投射的射線數(shù)量。射線數(shù)量越多，AO 質(zhì)量越高，但烘焙時間也越長。

Anti-aliasing Samples???????????????進(jìn)行 AO 抗鋸齒時要采集的樣本數(shù)。樣本數(shù)量越多，AO 質(zhì)量越高，但烘焙時間也越長。

General GI

屬性????????????????????????????????????????????????????????????????????功能

Backface Tolerance????????????????????必須照射到光照系統(tǒng)正面才會被視為可用的輸出紋理像素發(fā)射光線的百分比。如果從紋理像素投射的太多光線照射到背面（例如，如果紋理像素在某個幾何體內(nèi)），此設(shè)置允許 Unity 讓紋理像素?zé)o效。光照系統(tǒng)從周圍紋理像素克隆有效值來避免意外的瑕疵。

如果?Backface Tolerance?設(shè)置為 0.0，則光照系統(tǒng)僅在紋理像素只能看到背面的情況下才會拒絕該紋理像素。如果此設(shè)置為 1.0，即使射線原點有一條射線照射到背面，光照系統(tǒng)也會拒絕該原點。

分配光照貼圖參數(shù)資源

場景

要將光照貼圖參數(shù)資源分配到整個場景，請打開?Lighting 窗口?(Window?>?Lighting)，單擊?Scene?選項卡，然后導(dǎo)航到?General GI?設(shè)置。

使用?Default Parameters?下拉選單來分配默認(rèn)的光照貼圖參數(shù)資源。此下拉選單會列出所有可用的光照貼圖參數(shù)資源。

游戲?qū)ο?/strong>

要將光照貼圖參數(shù)資源分配給單個游戲?qū)ο?，請確保游戲?qū)ο笠迅郊泳W(wǎng)格渲染器 (Mesh Renderer) 或地形 (Terrain) 組件。

要將光照貼圖參數(shù)資源分配給網(wǎng)格渲染器，請勾選該組件的?Lightmap Static?復(fù)選框，然后從?Lightmap Settings?下的?Lightmap Parameters __ 中選擇一個選項。選擇?Scene Default Parameter__ 即可使用分配給整個場景的同一光照貼圖參數(shù)資源。

要將光照貼圖參數(shù)資源分配給地形，請勾選該地形的?Lightmap Static?復(fù)選框，然后從?Advanced Parameters?中選擇一個選項。選擇?Scene Default Parameters?即可使用分配給整個場景的同一光照貼圖參數(shù)資源。

標(biāo)簽：