【W(wǎng)ARFRAME】TennoGen 第 21 輪提交即將結(jié)束!
你好 Tenno,
我們非常高興能在此分享 TennoGen 第 21 輪的截止日期,以便讓我們的創(chuàng)作者有足夠的時間對他們的最新作品進行最后的潤色!
TennoGen 第 21 輪的截止日期是美東時間 2021 年 9 月 7 日下午 2 點(北京時間 2021 年 9 月 8 日凌晨 2 點)!之后,我們將審核 2021 年 2 月 21 日之后提交或更新的所有作品。
如果您的作品在創(chuàng)意工坊中存在了很長時間(超過一年),我們強烈建議您重新提交,以免我們錯過更新的版本。一般而言,我們建議您為 2 月 21 日之前上傳的作品重新提交,以確保我們會對其進行審核,但我們會盡最大努力尋找盡可能多的更新內(nèi)容。
在提交之前,請留意作品中的一些紋理文件名改動和一般紋理優(yōu)化改動。
紋理優(yōu)化:
早在更新 29.3.1 發(fā)布時,我們就發(fā)布了《大縮減:第 2 部分》,其中涉及對紋理壓縮的更改。這會影響到 TennoGen 創(chuàng)作者,我們希望您的作品盡可能地發(fā)揮最佳效果。因此,(如果之前的流程中沒有的話)我們建議您在創(chuàng)作流程中加入以下內(nèi)容:
以游戲中的分辨率測試所有紋理,并確保在此分辨率下一起測試它們。您可以在此處或文件下載中的最終提交清單中查看最終分辨率需求清單。
優(yōu)化您的 UV 以充分利用有限的分辨率。良好的 UV 映射實踐在幫助您的作品呈現(xiàn)最佳效果方面大有幫助,因此請查看有關(guān)如何提高這項重要技能的在線資源。
避免在法線貼圖中添加微觀細節(jié)。一旦將它們添加到游戲中,它們就會變得異常忙碌和混亂。如果您想為您的作品添加微觀細節(jié),您可以要求我們在您提交的自述文件中使用我們自己的內(nèi)部圖集細節(jié)。
我們的紋理指南已更新,為未來的創(chuàng)作者提供了這些提示(以及命名規(guī)范的更改)!
此外,我們要求在您提交的完整作品中包含一張清晰標記的游戲內(nèi)分辨率屏幕截圖,以確保美工和社區(qū)玩家們更好地了解該作品進入《Warframe》后的視覺效果!
屏幕截圖指南
所有的作品都必須按照以下的截圖規(guī)范進行提交,這樣我們才能正確審核你的作品。我們保留拒絕沒有適當截圖的作品的權(quán)利,因為我們無法正確審核您的作品。
請確保上傳一張色調(diào)明細圖。
在 50% 的灰色背景和非彩色燈光下,至少上傳一張光線充足的截圖。
對于外觀和披飾,請確保你的截圖中的顏色與你上傳的文件中的顏色一致。
對于戰(zhàn)甲的替換頭盔,請確保在你的文件和截圖中與戰(zhàn)甲的基礎顏色相匹配。
確保你的截圖都是最新的!如果你有以前版本的對比照片,請注明哪些是當前版本的截圖——也就是我們應該審核的版本。
重要的是:上傳一張在游戲內(nèi)分辨率下的全視角截圖,并清楚地標明(例如:在角落里寫著“游戲內(nèi)分辨率”的文字)。僅僅是正視圖就可以了,但如果你想包括多個角度,那就更受歡迎了。
最后,請?zhí)峁┠愕淖髌返谋趁?、正面和?cè)面視圖,以便我們能夠看到全貌。這些視圖不應該是局部的——我們需要從各個角度看到完整的作品。
就是這些!我們有很多作品要審核,所有這些都是為了讓 TennoGen 作品以最完美的形態(tài)呈現(xiàn)。
創(chuàng)作愉快,Tenno!