鎢酸鉍量子點(diǎn)/納米片修飾石墨相氮化碳(g-C3N4)(Bi2WO6/g-C3N4)應(yīng)用探究：

利用超聲-水熱法,使用油酸鈉輔助合成鎢酸鉍(Bi2WO6)量子點(diǎn)/納米片修飾的石墨相氮化碳(g-C3N4)(Bi2WO6/g-C3N4)復(fù)合劑.通過X射線粉末衍射(XRD),透射電子顯微鏡(TEM),傅里葉變換紅外光譜(FT-IR),紫外可見漫反射光譜(UV-Vis DRS),N2吸附-脫附等技術(shù)手段獲得Bi2WO6/g-C3N4的組成,結(jié)構(gòu)和光吸收性能,分析合成機(jī)理.以羅丹明B(Rh B)水溶液為模擬污染物.結(jié)果表明:g-C3N4和Bi2WO6的質(zhì)量比為3:7的Bi2WO6/g-C3N4-30具有最有效的異質(zhì)界面,電化學(xué)阻抗和光電流測試結(jié)果顯示其光生載流子傳輸速率快,復(fù)合率低,可見光照射120 min對Rh B的降解率達(dá)到95. 8%;

瑞禧推薦閱讀-CdTe/SiO2/PMMA復(fù)合粒子的制備：

采用反向原子轉(zhuǎn)移自由基法,制備了SiO2/PMMA復(fù)合粒子.用硅烷偶聯(lián)劑γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷對納米SiO2進(jìn)行表面改性,通過親水親油性實(shí)驗(yàn),確定了硅烷偶聯(lián)劑的最佳用量(質(zhì)量分?jǐn)?shù)為10%).通過紅外光譜和熱重分析,證明聚甲基丙烯酸甲酯是通過化學(xué)鍵合接枝到納米SiO2粒子表面.用透射電鏡觀察了納米SiO2和復(fù)合粒子在乙醇中的分散情況,表明復(fù)合粒子的分散效果更好.

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RXYWX.2022.10.26