氧化鋯陶瓷具有良好的機械性能和美學特性，逐步被應用到口腔醫(yī)學領域。但氧化鋯與各種基質(zhì)粘接強度不足是臨床應用中一直存在的問題。
　　

由于氧化鋯陶瓷缺少氧化硅及玻璃相關成分，不能被氫氟酸酸蝕來形成粗糙表面，也不能與硅烷偶聯(lián)劑形成化學結(jié)合，所以傳統(tǒng)的水門汀以及粘接方法不能為氧化鋯提供足夠的粘接強度。


　　

等離子體又叫電漿，是由分子、原子及其被電離后產(chǎn)生的正負帶電粒子組成的氣體狀物質(zhì)。它是物質(zhì)存在的基本形式之一，是除固、液、氣三態(tài)外，物質(zhì)存在的第四態(tài)，也是宇宙中廣泛的物質(zhì)存在形式。
　　
在工業(yè)領域，等離子體常被用作材料的表面改性處理。低溫等離子體溫度較低，接近室溫，同時含有大量高能帶電粒子，可在材料表面引發(fā)自由基，并可引入多種活性基團，在改善材料表面潤濕性、極性及粘接性能的同時，不會對材料造成破壞。
　　
低溫等離子處理機處理氧化鋯表面，可增加表面能和潤濕性。利用低溫等離子設備對氧化鋯表面處理，提高氧化鋯與樹脂水門汀的粘接強度。
　　

等離子清洗設備體積小，操作簡單，且使用氣體來源廣泛，成本低廉，適合于牙科臨床應用。
　　

使用Ar加O2氣體產(chǎn)生的低溫等離子處理氧化鋯表面后，發(fā)現(xiàn)氧化鋯表面碳元素明顯減少，而氧元素明顯增加，繼而增加氧化鋯的表面能和潤濕性。
　　

使用等離子技術處理氧化鋯表面后發(fā)現(xiàn)潤濕性增加。測量氧化鋯表面對水的接觸角，接觸角越小其潤濕性也越好。經(jīng)10sec等離子處理后，氧化鋯試件表面接觸角明顯較對照組減小。這些結(jié)果證明等離子處理提高氧化鋯表面的潤濕性和親水性。
　　

低溫等離子處理機能在不改變氧化鋯表面形態(tài)的基礎上，顯著增加氧化鋯表面的親水性，并提高氧化鋯與樹脂水門汀的粘接強度。當?shù)入x子與前處理劑及噴砂處理聯(lián)合使用時，粘接強度能得到進一步提高。
　　

低溫等離子體溫度接近室溫，同時含大量高能帶電粒子，在改善材料表面潤濕性、極性及粘接性能的同時不會對材料造成破壞，有良好應用前景。