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1. 本書概況

光刻機常被成稱為“半導(dǎo)體工藝皇冠上的明珠”。誰掌握了光刻機制造技術(shù)，誰就可以在大國博弈中立于不敗之地。本書在介紹光刻技術(shù)應(yīng)用上，作者涵蓋了全面又豐富的內(nèi)容；在論述光刻技術(shù)的共性內(nèi)容后，該書專門開辟章節(jié)，較為詳細地介紹了最先進的極紫外光刻技術(shù)的特點和難點，從理論上揭示了極紫外光刻的技術(shù)奧秘。

2.本書特色

（1）本書是一本系統(tǒng)解讀光學(xué)光刻技術(shù)的Z新專著，涵蓋了該領(lǐng)域各個重要方面，既有理論的深度又有內(nèi)容的廣度。

（2）目前尚沒有一本關(guān)于光刻技術(shù)方面的書可以與之媲美。該書凝聚了作者在光刻領(lǐng)域三十多年科研和教學(xué)的精華，對于從事芯片領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員，這是一本手冊性的內(nèi)容豐富的參考書。

（3）本書由ASML團隊匠心翻譯。

內(nèi)容簡介

《光學(xué)光刻和極紫外光刻》是一本Z新的光刻技術(shù)專著，內(nèi)容涉及該領(lǐng)域的各個重要方面。在介紹光刻技術(shù)應(yīng)用上，涵蓋了全面又豐富的內(nèi)容；在論述光刻技術(shù)的物理機制和數(shù)學(xué)模型時，采用了完整而不繁瑣的方法，增加了可讀性。本書在系統(tǒng)地闡述了光學(xué)光刻技術(shù)的基本內(nèi)容后，還專門開辟章節(jié)，介紹了最先進的極紫外光刻技術(shù)的特點和難點，揭示了極紫外光刻的技術(shù)奧秘。本書具有全面、完整、翔實和新穎的特點，它凝聚了作者三十多年光刻領(lǐng)域科研和教學(xué)的精華。

作者簡介

安迪·愛德曼（Andreas Erdmann)，國際光學(xué)工程學(xué)會（SPIE）會士，德國弗勞恩霍夫協(xié)會（Fraunhofer）下屬集成系統(tǒng)和元器件技術(shù)研究所（IISB）計算光刻和光學(xué)部門的負責(zé)人。他還是埃朗根大學(xué)（University of Erlangen）的客座教授、國際Fraunhofer光刻仿真研討會的組織者，主持過國際光學(xué)工程學(xué)會（SPIE）的光學(xué)光刻和光學(xué)設(shè)計大會。擁有25年以上的光學(xué)光刻和極紫外光刻的研究經(jīng)驗，為多個先進光刻仿真軟件的發(fā)展做出了關(guān)鍵貢獻，其中包括光刻仿真軟件Dr.LiTHO的研發(fā)。

高偉民，阿斯麥公司（ASML）中國區(qū)技術(shù)總監(jiān)，資深的光刻技術(shù)專家。獲浙江大學(xué)光學(xué)工程學(xué)士學(xué)位和比利時魯汶大學(xué)物理學(xué)碩士、博士學(xué)位。曾任職于比利時微電子研發(fā)中心（IMEC）和美國新思科技（Synopsys）。他專注先進光刻技術(shù)研發(fā)20多年，參與了從0.13μm到5nm節(jié)點的多世代先進光刻技術(shù)開發(fā)，擁有16年極紫外光刻技術(shù)研發(fā)的豐富經(jīng)驗。技術(shù)專長涵蓋了廣泛的光刻領(lǐng)域，包括光刻工藝開發(fā)、成像技術(shù)、分辨率增強技術(shù)、計算光刻、先進掩模和設(shè)計工藝協(xié)同優(yōu)化技術(shù)（DTCO）等。

徐東波，比利時微電子研發(fā)中心（IMEC）研究員。獲中國科學(xué)院大學(xué)碩士學(xué)位和弗里德里希-亞歷山大-埃朗根-紐倫堡大學(xué)博士學(xué)位，博士攻讀于德國埃朗根弗勞恩霍夫（Fraunhofer IISB）計算光刻和光學(xué)小組。研究方向包括光學(xué)光刻和極紫外光刻仿真、光源掩模協(xié)同優(yōu)化（SMO）、光學(xué)鄰近效應(yīng)矯正（OPC）建模及圖像處理。

諸波爾，阿斯麥公司（ASML）中國區(qū)計算光刻高級工程師、項目主管。獲浙江大學(xué)工學(xué)學(xué)士學(xué)位和中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機械研究所博士學(xué)位（研究方向：高端光刻機技術(shù)）。擁有0.18μm～7nm全節(jié)點計算光刻研發(fā)經(jīng)驗，掌握光源掩模協(xié)同優(yōu)化（SMO）和光學(xué)鄰近效應(yīng)校正（OPC）建模在各制程節(jié)點中的應(yīng)用與優(yōu)化技術(shù)。此外，研究方向還包括EUV計算光刻、設(shè)計工藝協(xié)同優(yōu)化技術(shù)（DTCO）和嚴(yán)格電磁場仿真等。