半導體工業(yè)對清潔水的電導率、離子含量、TOC和顆粒物的要求越來越嚴格。由于超純水在許多指標上對半導體的要求很高，因此半導體行業(yè)的超純水與其它行業(yè)的用水要求不同。半導體行業(yè)對超純水有極其嚴格的水質(zhì)要求。

　　半導體工業(yè)是超純水應用的主要產(chǎn)業(yè)之一。在半導體加工過程中，對水質(zhì)要求很高，不含任何離子雜質(zhì)。半導體超純水設備可以有效去除水中雜質(zhì)，保證設備出水水質(zhì)?，F(xiàn)如今采用雙反+EDI+Huncotte系統(tǒng)組合工藝制備超純水。

　　反滲透系統(tǒng)采用反滲透原理，主要去除溶解鹽、有機物、膠體、高分子等，降低水質(zhì)離子含量。EDI是結合離子交換膜技術和離子電遷移技術的純水制造技術。它不需要酸堿再生，是一種新的脫鹽方法。EDI無需回收化學品，運行成本低，EDI超純水系統(tǒng)自動化程度高，可實現(xiàn)連續(xù)運行，出水水質(zhì)良好穩(wěn)定，出水電阻率高≥ 15mΩ·cm。Huncotte系統(tǒng)用于高純水處理系統(tǒng)的末端凈化器?？蓪⑺须x子含量降至ppb級，為半導體帶來更好的性能優(yōu)勢。

　　半導體超純水設備生產(chǎn)高質(zhì)量超純水，成為行業(yè)制勝法寶，并且達到了一定的環(huán)保與經(jīng)濟效益。

　　編輯：杜鵑花 技術：木子

　　轉(zhuǎn)載時請注明文章來源“萊特萊德”，否則視為侵權，感謝配合。