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C17510 DIN17666?2.0850銅合金沖壓銅帶

2023-04-07 09:39 作者:東莞市豪洋金屬材料  | 我要投稿

C17510 DIN17666 2.0850銅合金沖壓銅帶


QAl10-4-4 C63000, C63200 CAl04, CAl05 CuAl9Ni5, Fe3Mn CuAl10Ni C601 CuA10, F5Ni5

QAl11-6-6 - - - CuAl11Ni C6280 -

QBe2 C17200, C17300 - CuBe2 CuB2 C1720 CuBe2

QBe1.9 C17200 - CuBe1.9 - - -

QBe1.7 C17000 CB101 CuBe1.7 CuBe1.7 C1700 CuBe1.7

QSi1-3 C64700 DTD498 - CuNi2Si, CuNi3Si - CuNi2Si

QSi3-1 C65500,C 65800 CS101 - CuSi3Mn - CuSi3Mn1

QMn1.5 - - - CuMn2 - -

QMn5 - - - CuMn5 - -


微電子技術(shù)的核心是集成電路。集成電路是指以半導(dǎo)體晶體材料為基片(芯片),采用專(zhuān)門(mén)的工藝技術(shù)將組成電路的元器件和互連線(xiàn)集成在基片內(nèi)部、表面或基片之上的微小型化電路。這種微電路在結(jié)構(gòu)上比zui緊湊的分立元件電路在尺寸和重量上小成千上萬(wàn)倍。它的出現(xiàn)引起了計(jì)算機(jī)的巨大變革,成為現(xiàn)代信息技術(shù)的基礎(chǔ)。己開(kāi)發(fā)出的很大規(guī)模集成電路,在比小姆指甲還小的單個(gè)芯片面積上,能做出的晶體管數(shù)目,己達(dá)十萬(wàn)甚至百萬(wàn)以上。國(guó)際著名的計(jì)算機(jī)公司IBM(國(guó)際商業(yè)機(jī)器公司),己采用銅代替硅芯片中的鋁作互連線(xiàn),取得了突破性進(jìn)展。這種用銅的新型微芯片,可以獲得30%的效能增益,電路的線(xiàn)尺寸可以減小到0.12微米,可使在單個(gè)芯片上集成的晶體管數(shù)目達(dá)到200萬(wàn)個(gè)。這就為古老的金屬銅,在半導(dǎo)體集成電路這個(gè)zui新技術(shù)領(lǐng)域中的應(yīng)用,開(kāi)創(chuàng)了新局面 [1]? 。引線(xiàn)框架

為了保護(hù)集成電路或混合電路的正常工作,需要對(duì)它進(jìn)行封裝;并在封裝時(shí),把電路中大量的接頭從密封體內(nèi)引出來(lái)。這些引線(xiàn)要求有一定的強(qiáng)度,構(gòu)成該集成封裝電路的支承骨架,稱(chēng)為引線(xiàn)框架。


C17510 DIN17666?2.0850銅合金沖壓銅帶的評(píng)論 (共 條)

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