半導(dǎo)體晶圓清洗,用臭氧水效果怎樣?
大家好,我是消達(dá)人董工,專注于臭氧,幫您解決臭氧消毒、氧化問題。
今天分享的話題是用臭氧水清洗半導(dǎo)體晶圓或者芯片,效果怎樣?
我們一個做芯片的外資客戶,用超純水清洗半導(dǎo)體晶圓,
經(jīng)過EDI,反滲透工藝的超純水,到純水箱是沒有細(xì)菌,
盡管客戶清洗半導(dǎo)體晶圓用水,充了氮氣保護(hù),
但水箱后的管道,一段時間會滋生細(xì)菌;
這個時候要用臭氧水消毒,分解的是氧氣,無殘留物。
水量比較大,型號建議XDR-50Y,或者Y系列氧氣型臭氧發(fā)生器。
接通臭氧后,經(jīng)測試,半導(dǎo)體晶圓清洗臭氧水出口>2mg/l, 管道里面的臭氧水濃度,1.0~2.0,
反復(fù)清洗了一天,超純水管道達(dá)到了17兆歐。
#半導(dǎo)體清洗臭氧水#晶圓清洗臭氧水

標(biāo)簽: