TEM測(cè)試高分辨晶格圖像的識(shí)別
在做透射電子顯微鏡(TEM測(cè)試)時(shí),科學(xué)指南針檢測(cè)平臺(tái)工作人員在與很多同學(xué)溝通中了解到,大多數(shù)同學(xué)對(duì)高分辨晶格圖像的識(shí)別不是很清楚,針對(duì)此,科學(xué)指南針檢測(cè)平臺(tái)團(tuán)隊(duì)組織相關(guān)同事對(duì)網(wǎng)上海量知識(shí)進(jìn)行整理,希望可以幫助到科研圈的伙伴們;
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通常情況下,電子束穿過(guò)薄樣品時(shí)振幅和相位都會(huì)發(fā)生變化,這兩種變化都會(huì)引起圖像的襯度,在高分辨的情況下,我們可以獲取分辨率為納米級(jí)的衍襯圖像和原子尺寸級(jí)的高分辨結(jié)構(gòu)圖像,分析這兩種圖像的時(shí)候經(jīng)常會(huì)因?yàn)橐曈X(jué)上的錯(cuò)覺(jué)導(dǎo)致分析錯(cuò)誤。因此需要對(duì)襯度理論有清晰的認(rèn)識(shí),才能正確解讀高分辨晶格圖像。
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我們可以看到振幅襯度源于質(zhì)量、厚度的變化及兩者的共同作用,主要包括質(zhì)-厚襯度和衍射襯度兩種類(lèi)型,從質(zhì)厚襯度這個(gè)角度來(lái)說(shuō),明場(chǎng)像中厚/高Z的區(qū)域比薄/低Z的區(qū)域暗,暗場(chǎng)像則相反。而明顯的衍射襯度則需將樣品傾轉(zhuǎn)到雙束條件下才能獲得。另一方面,相位襯度是分析高分辨像最常用的工具,它對(duì)樣品的厚度、晶體取向、散射因子、物鏡離焦量等變化都很敏感,因此才能實(shí)現(xiàn)原子結(jié)構(gòu)的成像,嚴(yán)格來(lái)說(shuō),我們平時(shí)看到的高分辨像主要是由相位襯度構(gòu)成的,部分低倍相也同樣會(huì)顯示相位襯度。
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從相位襯度講,高分辨像上的條紋位置與晶面位置并不一定重合,由于晶格條紋像與原子面非常相似,所以常常把它誤認(rèn)為原子面,實(shí)際上除非是正帶軸像,多數(shù)晶格條紋并非結(jié)構(gòu)像,只能給出晶面間距和取向的相關(guān)信息。解讀這些晶格條紋像只有經(jīng)過(guò)模擬計(jì)算才能解釋。
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