【8月1日訊】相信大家都知道，全球IDM芯片巨頭—Intel再次頒發(fā)了一則“芯片新工藝命名新規(guī)”，在全球芯片產(chǎn)業(yè)鏈中掀起了一股掀然大波，因為Intel直接公布了自家的制程技術(shù)和實現(xiàn)路徑，直接拋棄了目前臺積電、三星的芯片工藝命名規(guī)則，不再采用XXnm工藝來命名，而是采用intel7、intel4、intel3、intel 20A、intel18A等規(guī)則來重新定義芯片制程工藝；

Intel為何要改變傳統(tǒng)的芯片工藝命名規(guī)則呢？

其實在Intel、三星所制定的芯片制程工藝規(guī)則下，讓Intel非常被動，一直都只能夠處于制程工藝落后好幾代的尷尬局面，其次便是臺積電、三星一直都在芯片制程工藝上進(jìn)行摻水，而Intel方面顯然不想同流合污，直接將10nm工藝叫成7nm工藝，將7nm工藝叫成5nm工藝，所以Intel重新制定了一個芯片命名規(guī)則，讓自家的芯片產(chǎn)品不再與XXnm工藝掛鉤，但對于很多消費者而言，目前Intel的芯片命名新規(guī)，到底對應(yīng)的是幾納米工藝呢？

我們從Intel官宣的信息來看，也是可以找到一些蹤跡，例如Intel將會在2021年下半年推出Intel 7，但并不是7nm制程工藝，而是英特爾之前發(fā)布的10nm Enhanced SuperFin；將會在2023年上半年發(fā)布Intel 4，同樣也不是4nm工藝，而是Intel之前上PPT發(fā)布的7nm工藝，Intel 3是之前PPT發(fā)布的7nm+；Intel18A是英特爾標(biāo)準(zhǔn)下的5nm+，Intel20A是英特爾標(biāo)準(zhǔn)下的5nm；我們都知道Intel的 10nm工藝可以比肩臺積電、三星的7nm制程工藝，而Intel的7nm工藝可以比肩臺積電的5nm、三星的3nm制程工藝，因為Intel更加遵循摩爾定律，不會虛標(biāo)芯片工藝制程。

但這也意味著Intel在五年內(nèi)的芯片制程工藝，最多也只能夠突破至5nm+，而更加高端的3nm、2nm制程工藝，則需要等到5年以后了，我們從Intel的標(biāo)準(zhǔn)來看，臺積電、三星芯片制程工藝存在虛標(biāo)，但如果以臺積電、三星的標(biāo)準(zhǔn)來看，Intel無疑就處于落后水準(zhǔn)。

最后：對于頒發(fā)芯片工藝命名新規(guī)的Intel，各位小伙伴們，你們覺得Intel是否真的落后了呢？歡迎在評論區(qū)中留言討論，期待你們的精彩評論！