今天我們來(lái)看一下發(fā)射對(duì)象剩下的一些參數(shù)，主要是Topology and Falloff這兩個(gè)參數(shù)。

我們先來(lái)看一下Topology面板：可以通過(guò)用于發(fā)射的多邊形的高度和/或坡度控制對(duì)象的發(fā)射，并且可以選擇從對(duì)象的曲率發(fā)射。在多邊形發(fā)射模式下可以使用高度和坡度控件，即多邊形中心，多邊形區(qū)域，紋理和照明；曲率在多邊形中心以外的所有模式下均可用。選擇這些模式之一時(shí)，拓?fù)淇焖龠x項(xiàng)卡將變?yōu)榭捎谩?/p>

Space:空間，該下拉菜單有兩個(gè)選項(xiàng)：

本地：粒子發(fā)射點(diǎn)的位置相對(duì)于發(fā)射對(duì)象（準(zhǔn)確地說(shuō)是相對(duì)于其軸）。這意味著移動(dòng)或旋轉(zhuǎn)對(duì)象不會(huì)影響任何多邊形的高度或坡度，因?yàn)樗鼈兿鄬?duì)于軸保持不變。

世界：使用此選項(xiàng)，任何多邊形的高度和坡度都相對(duì)于3D世界軸。移動(dòng)或旋轉(zhuǎn)發(fā)射對(duì)象可能會(huì)對(duì)用于發(fā)射的多邊形產(chǎn)生重大影響。請(qǐng)注意，空間與縫隙發(fā)射無(wú)關(guān)，因?yàn)榭p隙總是在局部空間中計(jì)算的。

Axis:軸,相對(duì)于X，Y或Z軸評(píng)估高度和斜率。默認(rèn)情況下，這是Y軸。請(qǐng)注意，軸與縫隙發(fā)射無(wú)關(guān)。

Max.Tries:最大嘗試，根據(jù)目標(biāo)和其他因素，可能很難或不可能找到合適的發(fā)射點(diǎn)。為了防止Cinema因計(jì)算永無(wú)休止而未響應(yīng)，發(fā)射器將僅嘗試為此設(shè)置中指定的次數(shù)找到合適的點(diǎn)。如果發(fā)現(xiàn)要發(fā)射的粒子數(shù)量非常少，則可以增加此值，但這當(dāng)然會(huì)降低動(dòng)畫(huà)的速度。

Use Height：使用高度，檢查此開(kāi)關(guān)以啟用發(fā)射高度控制。

Min/Max Height：最小/最大高度，發(fā)射點(diǎn)必須落在這兩個(gè)設(shè)置指定的高度范圍內(nèi)。不會(huì)從該范圍之外的點(diǎn)發(fā)射粒子。請(qǐng)記住，這些設(shè)置在“本地”模式下相對(duì)于對(duì)象軸，但在“世界”模式下相對(duì)于世界軸。

Spline:通過(guò)曲線來(lái)進(jìn)行調(diào)整，默認(rèn)情況下，基于高度的發(fā)射的使用將在發(fā)射粒子的區(qū)域與不發(fā)射粒子的區(qū)域之間形成硬邊界。您可以使用該樣條對(duì)發(fā)射區(qū)域的邊緣進(jìn)行羽化，或者使用它來(lái)控制該區(qū)域內(nèi)的發(fā)射模式（例如，您可以更改樣條以給出發(fā)射粒子的條紋與不發(fā)射條紋交替的條紋）。

Use Slope:使用坡度，選中此開(kāi)關(guān)以啟用發(fā)射斜率控制。

Min/Max Height:最小/最大斜率,發(fā)射點(diǎn)必須落在這兩個(gè)設(shè)置給定的斜率范圍內(nèi)。不會(huì)從該范圍之外的點(diǎn)發(fā)射粒子。請(qǐng)記住，這些設(shè)置在“本地”模式下相對(duì)于對(duì)象軸，但在“世界”模式下相對(duì)于世界軸。請(qǐng)注意，最小斜率為零度。當(dāng)用于發(fā)射的多邊形的法線與所選軸平行時(shí)，會(huì)發(fā)生這種情況。最大坡度為+90或-90度，當(dāng)多邊形法線與所選軸成直角時(shí)可以達(dá)到這些最大坡度。并非所有對(duì)象都可以具有負(fù)斜率。球體確實(shí)如此-這些是球體“底面”上的多邊形。但是，景觀對(duì)象不是-其所有多邊形的斜率為0度或更大。

Spline:使用方法和上面的高度一致

Curvature:曲率,選中此開(kāi)關(guān)可以控制物體曲率的發(fā)射。

什么是曲率？在折線和其他區(qū)域中，多邊形彼此相鄰且彼此成角度。這是與環(huán)境光吸收相同的原理，但是在這種情況下，粒子會(huì)聚集在“陰影”區(qū)域。并非所有對(duì)象都有這種東西。如果嘗試從球體上的縫隙發(fā)射，則由于沒(méi)有縫隙，因此不會(huì)發(fā)射任何粒子。曲率還可以應(yīng)用于對(duì)象中的山脊，而不是折疊。

這種工作方式是，發(fā)射器將為粒子選擇一個(gè)發(fā)射點(diǎn)。然后從該點(diǎn)發(fā)射“射線”，如果它們?cè)谥付ǚ秶鷥?nèi)以與包含發(fā)射點(diǎn)的多邊形相稱(chēng)的適當(dāng)角度撞擊另一個(gè)多邊形，則將發(fā)射粒子。

Ray Angle:射線角度，射線照射的多邊形必須與源多邊形之間的角度小于此值。對(duì)于大多數(shù)用途，默認(rèn)值為80度即可。如果減小它，您將看到發(fā)射的粒子更少，并且播放所需的時(shí)間更長(zhǎng)，但是在曲面上，粒子的發(fā)射可能會(huì)更受曲率限制。

Ray Length:射線長(zhǎng)度，對(duì)于要發(fā)射的粒子，射線命中點(diǎn)與源點(diǎn)之間的距離必須小于此值。如果將其設(shè)置得太大，則可能會(huì)從距離較遠(yuǎn)的多邊形發(fā)射粒子，這些粒子甚至不會(huì)與源多邊形形成彎曲區(qū)域。

Offset:偏移量，如果射線源點(diǎn)與發(fā)射器生成的點(diǎn)相同，它將記錄自身的直接命中。這沒(méi)有用，因此光線源點(diǎn)會(huì)沿著表面法線偏移此值。您幾乎總是可以將其保留為默認(rèn)值，但是如果您的模型很小，或者多邊形非?？拷瑒t可能需要縮小它。

Number of Rays:射線數(shù)，這是從生成的源點(diǎn)發(fā)出的光線數(shù)量，以便在附近找到另一個(gè)多邊形。在幾乎所有情況下，默認(rèn)值100應(yīng)該都可以。如果發(fā)現(xiàn)播放速度很慢，則可以犧牲精度來(lái)降低此值（某些相鄰的多邊形可能會(huì)丟失，因此不會(huì)發(fā)射粒子）。注意：要使曲率發(fā)射正常工作，源對(duì)象必須是單個(gè)網(wǎng)格。如果您的網(wǎng)格具有多個(gè)單獨(dú)的部分（并且Cinema 4D Figure基元是這樣構(gòu)建的），則應(yīng)將網(wǎng)格層次結(jié)構(gòu)放入“連接”對(duì)象并將其用作源，或者確保在“對(duì)象”中選擇“連接對(duì)象”。發(fā)射器的“對(duì)象鏈”（Object Chain）下拉菜單。

之后我們來(lái)看一下Initial State面板，Initial State的面板參數(shù)比較少，Initial State的作用就是設(shè)置我們粒子第一幀的狀態(tài)。

如果你想要56幀的粒子形態(tài)作為第一幀的粒子形態(tài)那么就可以點(diǎn)擊Set State進(jìn)行設(shè)置。那么Clear State就是清除紀(jì)錄的形態(tài)，后面的Load State和Save State和加載預(yù)置一致。

接下來(lái)我們?cè)賮?lái)看一下Falloff，那么Falloff也是比較簡(jiǎn)單的，添加一個(gè)衰減場(chǎng)，只有衰減場(chǎng)和對(duì)象的交集才會(huì)發(fā)射粒子，上面的Topology指的是在高度范圍內(nèi)或者角度范圍內(nèi)和對(duì)象的交集發(fā)射粒子

X-Particles發(fā)射器具有自己的衰減控件。這僅在從物體發(fā)射時(shí)適用。通常，發(fā)射器將從對(duì)象中的所有多邊形（或點(diǎn)或邊緣）發(fā)射，除非這當(dāng)然受到選擇標(biāo)簽的限制或當(dāng)發(fā)射由紋理或燈光控制時(shí)。此功能的作用是允許您將衰減區(qū)域應(yīng)用于對(duì)象，以便僅當(dāng)發(fā)射點(diǎn)在該區(qū)域內(nèi)時(shí)才發(fā)射粒子。

請(qǐng)注意，衰減在除“對(duì)象位置”，“對(duì)象體積”和“體素網(wǎng)格”之外的所有對(duì)象模式下均可用。同樣，它不適用于特殊的“流體”發(fā)射類(lèi)型“常規(guī)”和“六角形”。

在所有情況下，在選擇標(biāo)簽或紋理產(chǎn)生任何其他影響之前，都要對(duì)發(fā)射點(diǎn)是否在衰減區(qū)域內(nèi)進(jìn)行評(píng)估。例如，如果從紋理進(jìn)行發(fā)射，則發(fā)射器將首先計(jì)算可能的發(fā)射點(diǎn)是否在衰減范圍內(nèi)，如果發(fā)生，則它將計(jì)算紋理對(duì)發(fā)射的影響。這使您可以將衰減與發(fā)射的其他控件組合在一起：衰減不會(huì)覆蓋任何其他控件。

要使用衰減，請(qǐng)打開(kāi)“衰減”快速選項(xiàng)卡，然后選擇“無(wú)限”以外的其他模式。您可以調(diào)整其形狀，大小和位置以覆蓋要發(fā)射的區(qū)域。重要的是，您應(yīng)該注意，衰減必須在某個(gè)點(diǎn)與物體表面相交，才能發(fā)出粒子。如果移動(dòng)衰減以使其完全位于對(duì)象之外，或者調(diào)整大小以使其完全位于對(duì)象內(nèi)，則不會(huì)發(fā)射任何粒子。

Shape:衰減場(chǎng)不同的形狀。

Visibile：衰減場(chǎng)的可見(jiàn)性，如果開(kāi)啟后那么衰減場(chǎng)可見(jiàn)。

Size/Radius:衰減場(chǎng)的半徑大小。

Max.Retries：最大重試如果衰減僅與表面的一小部分相交，則發(fā)射器可能需要很長(zhǎng)時(shí)間才能找到位于衰減內(nèi)的點(diǎn)。這甚至可能導(dǎo)致X-Particle掛起。因此，發(fā)射器在衰減范圍內(nèi)尋找點(diǎn)的嘗試次數(shù)是有限制的。該限制由該設(shè)置指定。如果發(fā)現(xiàn)發(fā)射的粒子太少，可以嘗試增加該值，但請(qǐng)記住，它可能會(huì)減慢模擬速度。

Falloff Mode：衰減模式，

衰減本身具有幾種操作模式，可通過(guò)此下拉菜單選擇：

邊界

如果發(fā)射點(diǎn)在衰減范圍內(nèi)，則會(huì)生成粒子。如果不是，則不生成任何粒子。衰減形狀的邊界是生成粒子的嚴(yán)格邊界。

線性的

在這種模式下，越可能的發(fā)射點(diǎn)越接近衰減形狀的中心，生成粒子的可能性就越大。這將趨向于將粒子聚集在距離衰減最近的區(qū)域，而在較遠(yuǎn)距離發(fā)射的粒子更少。當(dāng)然，在衰減之外，不會(huì)產(chǎn)生任何粒子。

使用樣條

該模式（默認(rèn)設(shè)置）與“線性”模式相似，但不是使用簡(jiǎn)單的線性級(jí)數(shù)，而是通過(guò)“ Falloff Spline”控件控制粒子發(fā)射的可能性。例如，這使您可以在發(fā)射點(diǎn)離衰減形狀的中心越遠(yuǎn)的地方生成更多的粒子。

Falloff Spline：衰減樣條調(diào)整。