全球?qū)哂性絹碓娇斓挠嬎隳芰ν瑫r降低功耗和散熱的設(shè)備的需求是現(xiàn)代半導(dǎo)體行業(yè)的關(guān)鍵驅(qū)動力。為了增加晶體管密度，必須減小晶體管的尺寸。隨著極紫外?(EUV) 光刻技術(shù)的出現(xiàn)，預(yù)計 2023 年 3 納米節(jié)點(diǎn)將在商業(yè)大規(guī)模生產(chǎn)中取代當(dāng)前的 7納米/14 納米技術(shù)。此類器件每平方毫米包含超過 1 億個晶體管，單個晶體管的實際大小接近包含幾個原子碳鏈的分子大小。任何雜質(zhì)都會對最終產(chǎn)品產(chǎn)生不利影響。因此，清潔的生產(chǎn)環(huán)境對于避免制造過程中的故障至關(guān)重要。

空氣中的分子污染物?(AMC) 在半導(dǎo)體行業(yè)的生產(chǎn)過程中構(gòu)成了重大挑戰(zhàn)。它們可能導(dǎo)致流程中斷甚至無法使用的費(fèi)用。AMC 的來源多種多樣，既有外部的，也有內(nèi)部的?？諝膺^濾系統(tǒng)能夠減少不需要的灰塵顆粒，但當(dāng)揮發(fā)性有機(jī)和無機(jī)成分通過時可能會失效。

進(jìn)入潔凈室的人員可能成為污染源。在工藝本身中，摻雜劑、酸、堿、溶劑或脫氣的分子物質(zhì)都是會嚴(yán)重影響最終產(chǎn)品質(zhì)量的雜質(zhì)。氣相中需要持續(xù)監(jiān)測的典型雜質(zhì)有?SO2、NH3、NO2、H2S、PGMEA、PGME、乙酸、IPA、乙醇、乙二醇、THF、TMS、NMP、芳烴和制冷劑等。

傳統(tǒng)的分析方法無法在短時間內(nèi)提供精準(zhǔn)結(jié)果，因為它們通常需要耗時的采樣和樣品制備才能開始實際的分析過程。結(jié)果可能需要幾個小時才能獲得，如果過程已經(jīng)受到影響，則為時已晚，無法及時干預(yù)。為避免代價高昂的長時間過程中斷和最終產(chǎn)品故障，連續(xù)實時監(jiān)測潔凈室空氣已成為必要。即使在非常低的濃度下，AMC 也可能有害。因此，用于評估潔凈室空氣的分析方法不僅需要對被分析的分子具有高特異性，而且還需要超高靈敏度。

瑞零科技研發(fā)的AMC在線監(jiān)測系統(tǒng)，采用國際及國內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)方法，高效、準(zhǔn)確的測定AMC濃度值，檢出限低至0.1ppbv，配合自研的自控預(yù)警軟件平臺，及時可靠的監(jiān)測生產(chǎn)過程，準(zhǔn)確提供濃度數(shù)據(jù)，讓質(zhì)控、工藝生產(chǎn)人員有實時的數(shù)據(jù)反饋，已達(dá)到良率的提升。