小型蒸鍍儀（Small-size Thermal Evaporation System）是一種利用高溫蒸發(fā)技術(shù)制備薄膜的設(shè)備，也被稱(chēng)為真空蒸發(fā)沉積設(shè)備。該設(shè)備主要由蒸發(fā)源、真空室、控制系統(tǒng)和抽氣系統(tǒng)等主要組件組成。

蒸發(fā)源是將待蒸發(fā)材料固體化為塊狀，通過(guò)高溫蒸發(fā)制備薄膜的重要組件。通常使用的蒸發(fā)源材料包括金屬材料、氧化物、硅等材料，其形狀可以是塊狀、線狀、板狀等。

真空室是制備薄膜時(shí)的反應(yīng)室，通過(guò)泵抽氣將室內(nèi)氧氣、水蒸氣等揮發(fā)性雜質(zhì)排出，以便保持真空環(huán)境。控制系統(tǒng)用于控制溫度、氣壓、蒸發(fā)速率和薄膜厚度等參數(shù)，確保薄膜制備的精確性。抽氣系統(tǒng)則用于控制和維持真空環(huán)境。

小型蒸鍍儀通常用于實(shí)驗(yàn)室或小批量生產(chǎn)，可以制備純凈、均勻和厚度可控的薄膜。它廣泛應(yīng)用于電子器件、光學(xué)器件、納米材料制備等領(lǐng)域。同時(shí)，因?yàn)檎翦冞^(guò)程簡(jiǎn)單、成本低廉，因此小型蒸鍍儀也被稱(chēng)為最具經(jīng)濟(jì)性的薄膜制備設(shè)備之一。

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