真空充氮烤箱用于半導(dǎo)體行業(yè)
真空充氮烤箱用于半導(dǎo)體行業(yè)??真空充氮烤箱
真空充氮烤箱在半導(dǎo)體行業(yè)中有廣泛的應(yīng)用。
一、用途簡介：
????真空充氮烤箱適用于光電、硅晶片、電子芯片、電池、線路板、電子電器、金屬加工、制藥等各行業(yè)作無氧真空快速干燥、退火等高溫處理，可充惰性氣體防止產(chǎn)品氧化。深受生產(chǎn)線、實驗室及科研單位喜愛。
二、主要技術(shù)指標(biāo)：
規(guī)格型號： HE-WDN2-72 HE- WDN2-64 HE- WDN2-125 HE- WDN2-216 HE- WDN2-512 HE- WDN2-1000
內(nèi)箱尺寸(cm)： 30×30×30 40×40×40 50×50×50 60×60×60 80×80×80 100×100×100
外形尺寸(cm)： 70×55×125 70×66×145 78×77×155 90×86×165 115×108×185 136×166×188
總功率： 3.5KW 4.5KW 5.5KW 9.0KW 15.0KW 20.0KW
使用電源： AC 單相?三線?220V 50HZ AC 三相?五線?380V 50HZ
溫度偏差： ±3% ±5% ±8%
真空泵： 4升 8升
溫度范圍(選擇)：
□?RT+10℃～200℃
□ RT+10℃～250℃
□ RT+20℃～300℃
真空度范圍： 0～-100KPa
控制方式： 按鍵式控制或PLC觸摸屏控制
結(jié)構(gòu)： 一體式結(jié)構(gòu)（內(nèi)置真空泵）或分體式（外置真空泵）
內(nèi)箱材質(zhì)： SUS304#不銹鋼
外箱材質(zhì)： SECC鋼板高級烤漆處理
充氮氣裝置： 1）氮氣壓力范圍：3～4Kg左右；
2）流量計：量程為10L/min-100Lmin；
3）氣管配置：∮8mm氣管快插口；
4）充氮控制方式：采用時間自動控制或手動控制；
5）排氣閥：充氮氣的同時打開排氣閥，防止箱內(nèi)高壓；
6）氮氣：氮氣源用戶自備。
以下是一些主要的應(yīng)用領(lǐng)域：1. 清潔和去除水分：半導(dǎo)體器件制造過程中，清潔和去除水分是非常關(guān)鍵的步驟。真空充氮烤箱可以在低壓和高溫條件下，通過蒸發(fā)、擴散和吸附等機制，快速去除器件表面和內(nèi)部的水分，確保器件的干燥和清潔。
2. 退火和燒結(jié)：半導(dǎo)體材料和器件在制造過程中需要進行退火和燒結(jié)，以改善晶體結(jié)構(gòu)和性能。真空充氮烤箱提供了高溫、惰性氣氛和低壓條件，能夠有效地進行退火和燒結(jié)，提高材料和器件的品質(zhì)和性能。
3. 氣體置換和保護：半導(dǎo)體器件制造過程中，為了避免氧化和其他不良反應(yīng)，需要將器件內(nèi)部的氣體去除或置換成惰性氣氛。真空充氮烤箱通過抽取氣體和充注氮氣的方式，可以形成惰性氣氛，有效地保護器件免受氧化和其他有害反應(yīng)的影響。
4. 溫度控制和穩(wěn)定：半導(dǎo)體器件制造過程中，對溫度的控制和穩(wěn)定性要求非常高。真空充氮烤箱具備精確的溫度控制系統(tǒng)，能夠提供穩(wěn)定的溫度環(huán)境，確保器件在所需的溫度范圍內(nèi)進行熱處理，從而保證器件的品質(zhì)和性能。
總體而言，真空充氮烤箱在半導(dǎo)體行業(yè)中發(fā)揮著重要的作用，可以實現(xiàn)清潔和去除水分、退火和燒結(jié)、氣體置換和保護以及溫度控制和穩(wěn)定等關(guān)鍵工藝，提高器件的質(zhì)量和性能。
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