在做AFM測試時(shí)，武漢鑠思百檢測平臺(tái)工作人員在與很多同學(xué)溝通中了解到，好多同學(xué)對(duì)此項(xiàng)目不太了解，針對(duì)此，武漢鑠思百檢測平臺(tái)團(tuán)隊(duì)組織相關(guān)同事對(duì)afm測試進(jìn)行問題收集并整理，希望可以幫助到科研圈的伙伴們。

Q1；什么時(shí)候才會(huì)考慮I gain/P gain/setpoint這些參數(shù)？

Setpoint與力有關(guān)，接觸模式和峰值力輕敲模式下setpoint與力成正比關(guān)系，如果探針接觸不到表面出現(xiàn)形貌差異較大時(shí)需要增大setpoint，輕敲模式力與setpoint成拋物線關(guān)系，I gain在每次成像時(shí)都需要調(diào)節(jié)，先慢慢增大至誤差通道出現(xiàn)噪聲震蕩時(shí)回調(diào)I gain值至震蕩消失為最佳，調(diào)節(jié)好I gain后將P gain設(shè)置為I gain的2倍。

Q2；測量兩相之間電勢差采用KPFM模式還是PFM模式？

采用KPFM模式。

Q3; 樣品盤找不到鏡頭已經(jīng)降到最底下了怎么辦？

考慮顯微鏡聚焦沒調(diào)節(jié)好，一般在倒影相調(diào)好樣品虛像后再切換到sample相繼續(xù)往下聚焦至樣品實(shí)像。

Q4;片層兩邊黑是假象，怎么去掉？

片層兩邊黑是由于起伏對(duì)比度的差異，可以采用plane fit一階拉平的方式，注意框選同一個(gè)面上的點(diǎn)。

Q5.AFM和MFM都可以出形貌圖，這兩種有什么區(qū)別？以哪個(gè)為準(zhǔn)？
答：AFM出的圖是形貌圖，MFM出的圖是抬起模式相圖也就是磁疇分布圖，在分析相圖時(shí)需要對(duì)比形貌圖，分析兩者之間的差異從而得到磁分布的信息。

Q6.測量樣品起伏度有極限值嗎？
答：有極限值，最好1微米之內(nèi)，5微米以內(nèi)根據(jù)樣品性質(zhì)用輕敲模式掃描時(shí)降低掃描1速度可以實(shí)現(xiàn)，大于5微米的樣品不建議使用AFM進(jìn)行測試。

Q7.?樣品尺寸較大，微米級(jí)的可以測嗎？檢測有必要嗎？
答：樣品尺寸橫向大小微米級(jí)的可以使用AFM測試，根據(jù)你想得到的材料信息來判斷有沒有檢測的必要，如果微米級(jí)起伏根據(jù)第4條回答來判斷。

Q8.AFM力曲線中位移-力曲線和距離-力曲線如何轉(zhuǎn)化？轉(zhuǎn)化過程中需要注意哪些細(xì)節(jié)？
答：F-Z轉(zhuǎn)換成F-D曲線可以在分析軟件中修改，將display?mode改為Force?vs sep就可以直接轉(zhuǎn)換。

Q9.樣品是粉末，疏松度十分疏松，測量時(shí)，會(huì)不會(huì)因?yàn)榉勰┦杷?，測不了??？
答：一般粉末樣品需要分散到硅片或云母表面測試。

Q10.MESP針最大磁場可以加到多大？
答：MESP的探針矯頑力在400Oe，測試的樣品磁性較強(qiáng)時(shí)建議使用高矯頑力的探針或者低磁矩探針。

Q11.有鍍層的針會(huì)不會(huì)更粗一些？
答：不會(huì)，一般探針針尖在2nm，鍍層可以鍍的厚度很薄，可以忽略。

Q12.AFM圖上出現(xiàn)波紋狀結(jié)構(gòu)是什么原因呢？
答：AFM圖上出現(xiàn)波紋考慮是激光干涉或機(jī)械振動(dòng)，可以根據(jù)條紋的數(shù)量確定是高頻還是低頻噪聲，激光干涉的話需要重新調(diào)節(jié)激光的位置，機(jī)械振動(dòng)的話檢查氣浮臺(tái)和真空吸附開關(guān)有沒有打開。

Q13.電化學(xué)原子力顯微鏡是哪種？
答：將接觸式的原子力顯微鏡用于電解質(zhì)溶液研究電極的表面形貌，其力的作用原理與大氣中的AFM相同。

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