靶材是濺射薄膜制備的源頭材料，又稱濺射靶材，特別是高性能濺射靶材應用于電子元器件制造的物理氣相沉積工藝，預計2022年中國高性能濺射靶材市場規(guī)模同比增長19.1%。

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我國是全球最大的消費電子產(chǎn)品生產(chǎn)國、出口國和消費國，也是全球最大的集成電路半導體消費國和進口國，在最終下游眾多生產(chǎn)及消費領域的需求驅(qū)動了我國高性能濺射靶材行業(yè)快速增長。

2017-2022年中國高性能濺射靶材市場規(guī)模及增速

資料來源：共研產(chǎn)業(yè)咨詢（共研網(wǎng)）

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隨著各類濺射薄膜材料在半導體集成電路、平面顯示、信息存儲等領域的廣泛應用，下游領域?qū)R射靶材這一高附加值功能材料的需求不斷增加,高性能濺射靶材市場規(guī)模日益擴大，呈快速增長態(tài)勢。

2021年中國高性能濺射靶材行業(yè)下游應用市場占比

資料來源：共研產(chǎn)業(yè)咨詢（共研網(wǎng)）

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更多本行業(yè)詳細的研究分析見共研產(chǎn)業(yè)咨詢（共研網(wǎng)）《中國高性能濺射靶材市場深度調(diào)查與發(fā)展前景報告》，同時共研產(chǎn)業(yè)咨詢（共研網(wǎng)）還提供產(chǎn)業(yè)數(shù)據(jù)、產(chǎn)業(yè)研究、政策研究、產(chǎn)業(yè)鏈咨詢、產(chǎn)業(yè)圖譜、產(chǎn)業(yè)規(guī)劃、可行性分析、商業(yè)計劃書、IPO咨詢等產(chǎn)品和解決方案。